목차
전용액공정 전자소자 제작용 3D 가교제에 관한 연구 = Three-dimensional gelator for all solution-processed and photopatterned electronic devices / 김민제 ; 조정호 1
Abstract 1
1. 서론 1
2. 가교제를 이용한 전용액공정 광 패터닝 2
2.1. 4Bx를 이용한 전용액공정 PRFTs 및 논리회로 패턴제작 2
2.2. 4Bx를 이용한 전자재료 박막의 광 가교원리 4
3. 가교제를 이용한 전자재료의 광 가교 및 패턴 특성 5
3.1. 가교제의 함량에 따른 가교된 고분자 반도체의 특성 5
3.2. 가교제의 함량에 따른 가교된 폴리머 게이트 절연체의 특성 7
3.3. 가교제의 함량에 따른 가교된 전도체의 특성 7
4. 광 가교 공정을 통하여 제작된 PTFTs 및 논리회로의 전기적 특성 8
4.1. PTFT의 전기적 특성 8
4.2. PTFT 기반 논리회로의 전기적 특성 9
5. 결론 10
References 10
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