본 논문에서는 제안하는 구배형과 기존의 5차 함수 굴절률 분포의 반사방지막의 반사율을 조사하였다. 이를 위하여 구배형 및 5차함수 굴절률 분포를 갖는 3층 구조의 서로 다른 매질로 이루어진 반사방지막을 원자층증착법(Atomic layer deposition)을 사용하여 구현하였다. 구현된 5차 함수와 구배형 굴절률 분포의 반사방지막의 반사율을 측정하고 결과를 비교하였다. 그 결과로서 시뮬레이션에서 얻은 앞선 결과와 동일하게 약 600 nm ∼ 1100 nm 범위에서 구배형이 5차 함수 보다 더 낮은 반사율을 보였다. 향후 이 결과는 약 600 nm ∼ 1100 nm 영역에 사용되는 광소자 및 광필터 등에 적용되는 반사방지막 기술에 응용 가능하리라 판단된다.