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SUMMARY
CONTENTS
목차
세부과제 I. 광전변환저장 일체형 신형전지 개발 / 신경희 ; 진창수 ; 전명석 ; 전영갑 45
제1장 서론 47
제1절 기술의 개요 47
제2절 기술의 필요성 48
제3절 연구개발 현황 48
1. 염료감응 태양전지 연구개발 현황 48
2. 초고용량 커패시터 연구개발 현황 55
3. 신형전지 연구개발 현황 57
제4절 연구목표 및 내용 59
제2장 연구내용 및 결과 60
제1절 실험방법 60
제2절 소재 및 셀 특성 연구 63
1. 탄소계 전극 소재 특성 연구 63
2. 전해액 특성 연구 64
3. TiO₂ 전극 특성 연구 66
4. 광커패시터 셀 특성 69
제3장 결론 74
참고문헌 75
세부과제 II. C0₂/H₂ 원천분리 수소생산을 위한 유동층 공정개발 / 류호정 ; 배달희 ; 김지웅 77
제1장 서론 79
제1절 SMART 개요 79
제2절 기술개발 필요성 84
제3절 국내·외 기술개발 현황 85
1. 국외기술개발 현황 85
2. 국내기술개발 현황 86
제4절 연구개발 목표, 추진전략 및 방법 87
1. 연구개발 목표 87
2. 연구개발 추진전략 및 단계별 추진체계 87
3. 연구개발에 따른 기대성과 90
제2장 SMART 시스템의 공정설계 및 조업조건 선정 92
제1절 공정구성 선정 92
제2절 개념설계 96
제3절 변수의 영향 해석 98
제3장 SMART 시스템의 수소생산 특성 103
제1절 실험 103
제2절 반응실험 결과 107
제4장 신개념 2탑 유동층 공정개발 112
제1절 실험 114
제2절 결과 및 고찰 119
제5장 결론 126
제1절 연구내용 요약 및 결론 126
제2절 연구결과의 정량적 평가 128
참고문헌 130
세부과제 III. 나노 개질 촉매의 금속기판 부착기술 개발 / 노현석 ; 서용석 ; 서유택 ; 박상호 ; 황영재 133
제1장 서론 135
제1절 연구의 필요성 135
제2절 연구의 내용 및 범위 136
제2장 천연가스로부터 수소 제조 공정 138
제1절 단위 공정 구성 138
제2절 개질기 규모별 기술 현황 141
1. 1~10 N㎥/h 수소 생산 개질기 141
2. 10~1,000 N㎥/h 수소 생산 개질기 142
3. 1,000 N㎥/h 이상의 수소 생산 개질기 146
제3장 반응실험 및 장치 149
제1절 개질 반응실험 장치 149
제2절 촉매 제조 및 특성분석 151
1. 촉매 제조 151
2. 특성분석 154
3. 생성물 분석 155
제4장 결과 및 고찰 156
제1절 나노개질촉매 개발 156
1. 특성분석 156
2. 반응 결과 158
제2절 나노개질촉매의 금속기판 부착 162
1. 구조체 촉매와 펠렛 촉매의 비교 (열전달 증진 효과 연구) 162
2. 전기영동법을 이용한 알루미나층의 코팅 166
3. 나노개질 촉매가 부착된 금속 구조체 촉매의 성능 169
제5장 결론 172
참고문헌 173
세부과제 IV. One-Step 유동층 화학기상증착법을 이용한 CNT 대량생산 기술개발 / 박재현 175
제1장 서론 177
제1절 탄소나노튜브(Carbon Nanotubes, CNT) 177
제2절 화학기상증착 (CVD) 183
1. CVD의 정의와 이용 183
2. CVD의 장점과 단점 183
3. CVD와 다른 코팅 기술과의 비교 184
제3절 유동층 (Fluidized Bed) 185
제4절 국내외 기술개발 현황 188
1. 국내 기술개발 현황 188
2. 국외 기술개발 현황 189
3. 국내외 유사기술과의 차별성 191
제5절 연구의 내용 및 범위 192
1. 개발목표 192
2. 개발내용 192
3. 기대성과 192
제2장 One-Step 탄소나노튜브 (CNT) 합성 195
제1절 유동층 화학기상증착 (FB-CVD) 195
제2절 유동층 화학기상증착 장치 197
제3절 유동층 화학기상증착에 의한 탄소나노튜브 합성 촉매 제조 실험 200
제4절 유동층 화학기상증착에 의한 탄소나노튜브 합성 실험 203
제3장 탄소나노튜브의 특성화 208
제1절 SEM/EDXS 분석 208
제2절 TEM 분석 213
제3절 TGA 분석 214
제4장 결론 216
참고문헌 217
세부과제 V. N₂O 직접 분해용 나노촉매 제조기술 개발 / 박성열 ; 남성찬 ; 이종섭 219
제1장 서론 221
제1절 연구의 필요성 221
제2절 연구 목표 및 내용 222
1. 연구의 목표 222
2. 연구의 내용 222
제3절 개발 기술의 개요 및 특성 223
1. 개발 기술의 개요 223
2. 개발 기술의 특성 224
제2장 국내외 기술 개발 현황 226
제1절 국외 기술 개발 현황 226
제2절 국내 기술 개발 현황 232
제3장 실험 방법 234
제1절 양극산화 알루미나를 이용한 나노규모 촉매 제조 234
1. 양극산화 알루미나의 제조 234
2. 양극산화 알루미나를 이용한 촉매의 제조 236
제2절 N₂O 분해 실험 237
제4장 결과 및 고찰 239
제1절 양극산화 알루미나의 제조 239
1. 양극산화 알루미나의 성장 239
2. 양극산화 알루미나의 성장 속도 241
3. 양극산화 알루미나의 비표면적 243
제2절 양극산화 알루미나를 이용한 나노규모 촉매 제조 245
1. 양극산화 알루미나막의 제조 245
2. 촉매 물질 담지 246
3. XRD 분석을 통한 촉매 담지 확인 247
4. EDAX 분석을 통한 촉매 담지 확인 249
제3절 N₂O 분해 실험 251
제5장 결론 253
1. 양극산화 알루미나막의 제조 253
2. 양극산화 알루미나막에 촉매 물질의 담지 253
3. N₂O 직접 분해 253
참고문헌 254
세부과제 VI. 유기산 청정분리를 위한 고선택성 아민계 분리소재 개발 / 고창현 ; 나정걸 ; 범희태 257
제1장 유산 분리정제 기존연구동향 259
제1절 유산의 용도 및 시장성 259
1. 유산의 물성 및 특징 259
2. 유산의 용도 및 잠재성 260
제2절 유산 생산 및 분리·정제기술 소개 261
1. 상업용 유산 생산 및 분리·정제기술 261
2. 신규 유산 생산기술 동향 262
제3절 연구 목표 및 추진 전략 264
1. 본 연구의 목표 및 진보성 264
제2장 아민기가 부착된 흡착제 제조 및 유산 흡착 특성 266
제1절 서론 266
제2절 실험방법 266
1. 아민기가 부착된 흡착제 제조법 266
2. 유산 흡착량 측정법 및 흡착제 재생 조건 268
제3절 실험결과 및 토의 268
1. 실리카 표면에 아민기 부착 268
2. 아민기가 부착된 활성탄 제조 및 유산흡착특성 271
제4절 결론 279
참고문헌 280
세부과제 VII. 신광원 박막형 면발광 소재 및 제조기술 개발 / 장보윤 ; 박주석 281
제1장 서론 283
제2장 실리케이트계 박막형 형광체 개발 285
제1절 액상 증착 시스템 및 공정 구축 285
제2절 실리케이트계 박막형 형광체의 미세구조 분석 결과 286
제3절 실리케이트계 박막형 형광체 광학특성 분석 결과 287
제4절 실리콘 산질화물계 박막형 형광체의 미세구조 및 박막 두께 측정 295
제5절 실리콘 산질화물계 박막형 형광체의 광학 특성 분석 296
제3장 텅스테네이트계 박막형 형광체 개발 300
제1절 텅스테네이트계 박막형 형광체의 기상 증착 시스템 및 공정 확보 300
제2절 텅스테네이트계 박막형 형광체의 미세분석 및 광학특성 301
제4장 결론 311
참고문헌 312
서지정보양식
BIBLIOGRAPHIC INFORMATION SHEET
세부과제 I. 광전변환저장 일체형 신형전지 개발 42
〈표 2-1〉 제조업체별 활성탄의 물성 비교 63
〈표 2-2〉 전해질 종류별 이온반경 및 전도도 관계 65
〈표 2-3〉 PC와 ACN의 물성과 전기화학적 특성 비교 66
세부과제 II. C0₂/H₂ 원천분리 수소생산을 위한 유동층 공정개발 42
〈표 1-1〉 정량적 연구개발 목표 87
〈표 2-1〉 단양산 석회석의 물성치 94
〈표 2-2〉 LNG의 조성 94
〈표 2-3〉 Input data and parameters for 1 N㎥/hr SMART system design 97
〈표 2-4〉 Calculated values by design program 97
〈표 3-1〉 Properties of Danyang limestone 105
〈표 3-2〉 Experimental conditions 106
〈표 4-1〉 실험에 사용된 고체분사노즐 규격 및 고체유입구멍의 직경과 개수 117
〈표 4-2〉 Experimental condition for gas leakage tests 123
〈표 5-1〉 당해 연도 연구결과와 정량적 목표와의 비교 128
〈표 5-2〉 당해 연도 연구에 의한 기술수준 향상도 128
〈표 5-3〉 당해 연도 연구에 의한 선진국과의 기술격차 축소 129
세부과제 III. 나노 개질 촉매의 금속기판 부착기술 개발 42
〈표 2-1〉 국내외 1 ~ 10 ㎾급 개질기 개발 현황 142
〈표 2-2〉 수소스테이션용 개질기 개발 현황 143
〈표 2-3〉 오사카가스 HYSERVE 모델의 주요 사양 145
〈표 2-4〉 HYSERVE-100의 주요 사양 145
〈표 2-5〉 HTCR의 주요사항 (1,000 N㎥/h 수소 생산) 147
〈표 2-6〉 Mitsubishi Kakoki의 개질기 건설 실적 148
〈표 3-1〉 Composition of stainless steel (SUS) and FeCralloy 152
〈표 3-2〉 Product information provided by SASOL concerning starting oxides powders 153
〈표 4-1〉 Characteristics of supported Ni catalysts 156
〈표 4-2〉 Physical properties of the reactor beds 162
〈표 4-3〉 Enthalpy of formation and specific heat 163
세부과제 IV. One-Step 유동층 화학기상증착법을 이용한 CNT 대량생산 기술개발 43
〈표 1-1〉 탄소나노튜브의 물성 178
〈표 1-2〉 국내 기업의 탄소나노튜브 합성 관련 특허의 예 189
〈표 2-1〉 철(Fe)의 실리카겔에의 증착 실험조건 201
〈표 2-2〉 CNT 합성 실험조건 207
〈표 3-1〉 철/실리카 촉매의 표면에 CNT가 성장된 샘플의 조성 213
세부과제 V. N₂O 직접 분해용 나노촉매 제조기술 개발 43
〈표 1-1〉 연구 세부 목표 및 연구 내용 223
〈표 2-1〉 질산생산 공정에서 발생하는 N₂O 처리 기술 226
〈표 2-2〉 N₂O의 처리에 사용되는 대표적인 Fe-Zeolite 촉매의 성능 227
〈표 2-3〉 아디핀산 생산 공정에서 발생하는 N₂O 감축기술 현황 228
〈표 2-4〉 아디핀산 생산 공정에서 발생하는 N₂O의 열분해 공정 229
〈표 2-5〉 N₂O의 분해에 사용되는 대표적인 촉매 230
〈표 3-1〉 양극산화 알루미나 형성 실험 조건 235
세부과제 VI. 유기산 청정분리를 위한 고선택성 아민계 분리소재 개발 44
〈표 1-1〉 액상아민 이용 추출법과 본 연구개발 265
〈표 2-1〉 활성탄에 PEI 담지 조건에 따른 질소담지량 변화 276
세부과제 VII. 신광원 박막형 면발광 소재 및 제조기술 개발 44
〈표 3-1〉 산소분압에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막 표면의 성분분석 결과 310
세부과제 I. 광전변환저장 일체형 신형전지 개발 34
[그림 1-1] 염료감응 태양전지 작동원리(a) 와 셀 구조(b) 49
[그림 1-2] 산화물의 이론적으로 산출한 전도밴드 에너지 50
[그림 1-3] TiO₂ 필름의 표면 및 단면 SEM 이미지 51
[그림 1-4] 염료감응 태양전지용 염료의 구조 52
[그림 1-5] 전기이중층 커패시터의 충방전 원리 55
[그림 1-6] 광커패시터의 구조 및 충방전 원리 58
[그림 2-1] 광커패시터의 제작과정 및 제조한 셀 61
[그림 2-2] 전기화학 특성 측정 시스템 62
[그림 2-3] 활성탄 종류별 용량 및 저항 특성 64
[그림 2-4] 전해액 종류별 용량 및 저항 특성 67
[그림 2-5] 코팅한 TiO₂의 SEM 이미지... 67
[그림 2-6] 염료감응 태양전지 셀... 68
[그림 2-7] 염료감응 태양전지 셀의 전압-전류 특성 68
[그림 2-8] 제안된 광커패시터 셀 구조... 69
[그림 2-9] 광커패시터의 광충전 특성 72
[그림 2-10] 광커패시터의 방전 특성 72
[그림 2-11] 광커패시터의 저항 특성 73
세부과제 II. C0₂/H₂ 원천분리 수소생산을 위한 유동층 공정개발 34
[그림 1-1] 대표적인 수소생산방법. 79
[그림 1-2] 수증기 메탄 개질(SMR)법의 공정도. 80
[그림 1-3] C0₂/H₂ 원천분리 유동층 수소생산시스템(SMART)의 공정도. 82
[그림 1-4] 열역학적 분석에 의한 SMR과 SMART의 최적반응온도와 수소수율 비교. 83
[그림 1-5] 기존 SMR 공정과 본 연구에서 개발하고자하는 SMART 공정의 비교. 84
[그림 1-6] 국내외 기술수준 및 강점/약점 비교. 86
[그림 1-7] 연차별 연구추진체계. 89
[그림 2-1] SMART 시스템에 적용할 수 있는 가능한 2탑 유동층 공정구성,... 93
[그림 2-2] Effect of gas velocity in reformer or regenerator on (a) required reaction rate and (b) solid circulation rate. 95
[그림 2-3] Effect of hydrogen generation rate on (a) flow rate, (b) column diameter, (c) bed mass. 99
[그림 2-4] Effect of pressure on (a) reactor diameter, (b) bed mass, (c) solid circulation rate and required reaction rate. 100
[그림 2-5] Effect of weight percent of CO₂ absorbable component on (a) required reaction rate, (b) solid circulation rate. 101
[그림 3-1] Schematic of fluidized bed reactor. 104
[그림 3-2] 회분식 유동층 반응기 사진. 104
[그림 3-3] SMART 수소생산실험에 사용한 개질촉매 및 CO₂ 흡수제. 106
[그림 3-4] Outlet composition as a function of time(SMR condition). 107
[그림 3-5] Outlet composition as a function of time(SMART condition). 108
[그림 3-6] Temperature and CO₂ concentration profile during regeneration of CO₂ absorbent. 108
[그림 3-7] Average concentration of outlet gases as a function of the number of cycles. 109
[그림 3-8] CO₂ capture capacity as a function of the number of cycles. 110
[그림 4-1] Schematic of conventional two interconnected circulating fluidized bed system. 113
[그림 4-2] Schematic of two bubbling beds interconnected circulating fluidized bed system. 115
[그림 4-3] 신개념 2탑 유동층 공정 상온 실험장치 사진. 116
[그림 4-4] 자료수집 시스템 사진 116
[그림 4-5] 실험에 사용된 고체분사노즐의 사진. 117
[그림 4-6] 두 기포유동층 사이의 고체흐름특성. 118
[그림 4-7] 고체순환속도 측정을 위한 divertor 사진. 118
[그림 4-8] Bed pressure drop versus gas velocity for sharp sand. 119
[그림 4-9] Solid circulation rate versus gas velocity through the solid injection nozzle at different conditions.... 120
[그림 4-10] Solid circulation rate versus gas velocity through the solid injection nozzle at different conditions.... 121
[그림 4-11] Solid circulation rate versus gas velocity through the solid injection nozzle at different conditions.... 122
[그림 4-12] CO₂ concentration versus gas velocity through the solid injection nozzle at different measuring points (Test No. 1). 124
[그림 4-13] Traces of gas flow rates and pressure drop profiles during 60 hours long-term operation. 125
세부과제 III. 나노 개질 촉매의 금속기판 부착기술 개발 36
[그림 2-1] 천연가스로부터 수소제조를 위한 전체 개질 시스템 138
[그림 3-1] Schematic diagram of combined reforming system 150
[그림 3-2] Photo of Stainless steel Monolith 152
[그림 3-3] 생성물 분석을 위한 Gas Chromatograph. 155
[그림 4-1] XRD patterns of Ni-Ce-ZrO₂(Ni-Ce-ZrO2) catalysts with various Ce/Zr molar ratios 157
[그림 4-2] TPR patterns of Ni-Ce-ZrO₂ catalysts with various Ce/Zr molar ratios 158
[그림 4-3] CH₄ conversion with time on stream over supported Ni catalysts (T=800℃, GHSV=265,000 h-¹(이미지참조)) 159
[그림 4-4] CH₄ conversion with time on stream over Ni-Ce-ZrO₂ catalysts with different Ce0₂/Zr0₂ ratios (T=800℃, GHSV=265,000 h-¹(이미지참조)). 160
[그림 4-5] Comparison of CH₄ conversion over Ni-CeO₂ and Ni-Ce0.8Zr0.2O₂ catalysts at different temperature.(이미지참조) 161
[그림 4-6] Top view of the metal monolith structure. 163
[그림 4-7] Heat flux against the temperature gradient from the furnace wall at TFW to the catalyst bed at TCB, equil in the reactions with varying GHSV at 923 K (A) or with varying TCB at the GHSV of 31,000 h-¹(이미지참조) (B). 164
[그림 4-8] The change of heat transfer coefficient with Reynolds number in the reactions at 923 K (A), and with TCB, equil in the reactions at the GHSV of 31,000 h-¹(이미지참조) (B). 165
[그림 4-9] Effect of coating No on stability of metal monolith catalysts (Tcat=700℃, GHSV=3,600 h-¹(이미지참조), H₂O/CH₄=3). 166
[그림 4-10] Comparison of EPD and wash-coating method on stability of metal monolith catalysts (Tcat=700℃, GHSV=3,600 h-¹(이미지참조), H₂O/CH₄=3). 167
[그림 4-11] SEM image of Al₂O₃ layer formed by EPD. 168
[그림 4-12] Stability test of Ni-Ce0.8Zr0.2O₂ catalyst coated on metal monolith catalyst (Tcat=750℃, GHSV=3,600 h-¹, H₂O/CH₄=3).(이미지참조) 170
[그림 4-13] Comparison of metal monolith catalyst and pellet catalyst with change of GHSV at the same catalyst bed temperature (Tcat=650℃, H₂O/CH₄=3). 171
[그림 4-14] Comparison of metal monolith catalyst and pellet catalyst with change of furnace temperature (GHSV=32,000 h-¹(이미지참조), H₂O/CH₄=3). 171
세부과제 IV. One-Step 유동층 화학기상증착법을 이용한 CNT 대량생산 기술개발 37
[그림 1-1] 탄소나노튜브의 다양한 형태. 177
[그림 1-2] 탄소나노튜브의 다양한 응용분야. 178
[그림 1-3] 탄소나노튜브 합성에 사용되는 일반적인 열 CVD장치의 개략도. 179
[그림 1-4] 유동층 화학기상증착(FB-CVD) 장치의 개략도. 181
[그림 1-5] 유동층내 흐름영역과 압력강하. 186
[그림 2-1] 실험실 규모 유동층 화학기상증착 (FB-CVD) 장치의 사진. 197
[그림 2-2] 실용화 규모 FB-CVD 장치 조립도. 199
[그림 2-3] Silica 표면 위에 철(Fe) 나노 입자 증착 사진.... 203
[그림 2-4] 탄소나노튜브의 기상합성법에 사용되는 장치의 개략도. 206
[그림 3-1] 철이 실리카겔에 증착된 입자의 FE-SEM 사진. 209
[그림 3-2] Fe/alumina 촉매에서 합성된 탄소나노튜브의 SEM 사진. 209
[그림 3-3] 600℃에서 Fe/silica 촉매에서 합성된 탄소나노튜브의 SEM 사진. 210
[그림 3-4] 700℃에서 Fe/silica 촉매에서 합성된 탄소나노튜브의 SEM 사진. 211
[그림 3-5] 철/실리카 촉매의 표면에 CNT가 성장된 샘플의 EDXS 결과. 212
[그림 3-6] 유동층 화학기상증착 반응기에서 합성된 탄소나노튜브의 TEM image. 213
[그림 3-7] 유동층 화학기상증착 장치에서 합성된 CNT의 시간에 따른 질량변화. 214
[그림 3-8] 유동층 화학기상증착 장치에서 합성된 CNT의 온도에 따른 질량변화. 215
세부과제 V. N₂O 직접 분해용 나노촉매 제조기술 개발 38
[그림 1-1] 양극산화 알루미나를 이용한 N₂O 직접 분해용 촉매 제조 개념도 224
[그림 1-2] 양극산화 알루미나막 구조 개념도 225
[그림 2-1] 아디핀산 공정에서 발생되는 N₂O의 열분해 공정 개략도 228
[그림 2-2] 아디핀산 공정에서 발생되는 N₂O의 촉매분해 공정 개략도 229
[그림 3-1] 양극산화 알루미나 제조 장치의 개략도 235
[그림 3-2] 양극산화 알루미나 제조 장치 사진 236
[그림 3-3] 아산화질소(N₂O) 분해 실험을 위한 wet impergnated catalyst 237
[그림 3-4] 아산화질소(N₂O) 분해 실험장치 개략도 238
[그림 3-5] 아산화질소(N₂O) 분해 실험장치 사진 238
[그림 4-1] 양극산화 온도 및 시간에 따른 알루미나막의 SEM 사진 240
[그림 4-2] 양극산화 온도와 시간에 따른 알루미나막의 두께 241
[그림 4-3] 양극산화 온도 및 시간에 따른 알루미나막 형성 속도 242
[그림 4-4] 양극산화 알루미나막의 기공 구조 측정 SEM 사진 243
[그림 4-5] 양극산화 알루미나막 제조 사진 245
[그림 4-6] Electrochemical deposition에 의한 Cu 담지 사진 246
[그림 4-7] Electrochemical Cu deposition을 확인하기 위한 XRD 분석(1) 247
[그림 4-8] Electrochemical Cu deposition을 확인하기 위한 XRD 분석(2) 248
[그림 4-9] 양극산화 알루미나의 EDAX 분석 249
[그림 4-10] Electrochemical deposition한 양극산화 알루미나 내부의 EDAX 분석 250
[그림 4-11] Electrochemical deposition한 양극산화 알루미나 표면의 EDAX 분석 250
[그림 4-12] Wet impreganted catalyst를 이용한 N₂O 분해 특성(2,963 ppmN₂O) 251
[그림 4-13] Wet impreganted catalyst를 이용한 N₂O(N2O) 분해 특성(1,573 ppmN₂O(N2O)) 252
세부과제 VI. 유기산 청정분리를 위한 고선택성 아민계 분리소재 개발 39
[그림 1-1] 유산 (lactic acid)의 분자구조 (L form):... 259
[그림 1-2] 유산의 여러 가지 용도 및 잠재시장성 [1] 260
[그림 1-3] 유산생산을 위한 상업용 공정의 흐름도 262
[그림 1-4] 이중 전기투석법의 공정 흐름도 263
[그림 1-5] 3급 아민을 추출제로 이용한 유산 분리공정의 개념도 [5] 264
[그림 1-6] 기존 생산방식과 본 과제가 구현하고자 하는 유산 생산 방식의 비교 265
[그림 2-1] APTES grafting 처리 전, 후의 SBA-15의 X선 회절도 변화 269
[그림 2-2] 재생에 따른 APTES가 부착된 SBA-15의 유산흡착량 및 질소량 변화 269
[그림 2-3] APTES를 이용한 실리카 표면에 아민기 부착법의 반응도 [9,10] 270
[그림 2-4] TGA를 무게변화를 통한 아민 부착 활성탄, 아민 부착 styrene 고분자, 아민기가 포함된 이온교환수지 (DOWEX-66)의 열안정성 확인 271
[그림 2-5] Amide 결합을 이용한 아민기 부착법 개념 및 반응도 [9,10] 272
[그림 2-6] Ylide 반응을 이용한 아민기 부착법 개념 및 반응도[11,12] 273
[그림 2-7] Amide 결합이나 Ylide 반응을 이용한 활성탄 표면처리에 따른 아민기 부착량 273
[그림 2-8] 활성탄에 PEI 부착 반응에 대한 개념도 274
[그림 2-9] 활성탄과 PEI-활성탄의 FT-IR spectrum 차이 275
[그림 2-10] 여러 가지 PEI 담지 활성탄의 유산 흡착량 276
[그림 2-11] 사용된 활성탄의 초기 비표면적에 따른 유산의 흡착량 (1차 흡착량 기준) 변화 277
[그림 2-12] 여러 가지 고분자, 혹은 활성탄 기반 흡착제의 1차 유산 흡착량 비교 278
[그림 2-13] 재생 후 2차 유산흡착량 (bar) 및 1차 흡착량 대비 유산 흡착량 재생율 비교 278
세부과제 VII. 신광원 박막형 면발광 소재 및 제조기술 개발 40
[그림 1-1] 기존 LED광원과 본 과제에서 제안하는 박막형 LED광원의 개념도 283
[그림 2-1] 박막 증착 공정 순서도 286
[그림 2-2] 글로브박스 내에 구축된 박막 증착 시스템 사진들 286
[그림 2-3] 900℃ in 30%H₂/N₂ 분위기에서 후열처리한 Ca₂-xEuxSiO₄(이미지참조)박막의 (a) 단면 사진 및 (b) 기울어진 SEM 사진들 287
[그림 2-4] 첨가량에 따른 Ca₂-xEuxSiO₄박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 288
[그림 2-5] 온도 변화에 따른 Ca1.9Eu0.1SiO₄ 시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 288
[그림 2-6] 증착 횟수에 따른 Ca1.9Eu0.1SiO₄ 시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 289
[그림 2-7] Gas 유량변화에 따른 Ca1.9Eu0.1SiO₄ 시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 290
[그림 2-8] 열처리 분위기에 따른 Ca1.9-0.1Eu0.1SiO₄ 시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 290
[그림 2-9] 열처리 분위기에 따른 Ca1.9Eu0.1SiO₄ 시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 291
[그림 2-10] 증착횟수에 따른 Ba1.9Eu0.1SiO₄ 시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 292
[그림 2-11] 열처리 분위기에 따른 Ba1.9Eu0.1SiO₄ 박막시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 292
[그림 2-12] 증착시 스핀속도에 따른 Ba1.9Eu0.1SiO₄ 박막시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 293
[그림 2-13] 후열처리 온도에 따른 Ca₂-x-yEuxBaySiO₄ 박막시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 294
[그림 2-14] 증착횟수에 따른 Ca₂-x-yEuxBaySiO₄ 박막시편의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 294
[그림 2-15] 900℃ 질소 분위기에서 열처리한 Ca1.95Eu0.05Si5N8 시편의 증착 횟수에 따른 최대발광세기 및 박막 두께...(이미지참조) 295
[그림 2-16] Eu²+ 첨가량 변화에 따른 Ca₂-xEuxSi5N8 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 296
[그림 2-17] 열처리 분위기에 따른 Ca₂-xEuxSi5N8 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 297
[그림 2-18] Eu²+ 첨가량 변화에 따른 Ca₂-xAlEuxSiN₃ 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 298
[그림 2-19] 증착횟수 변화에 따른 Ca₂-xAlEuxSiN₃ 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 298
[그림 2-20] 열처리 분위기 변화에 따른 Ca₂-xAlEuxSiN₃ 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼(이미지참조) 299
[그림 3-1] PLD(Pulsed Laser Deposition) 시스템의 레이저부와 워킹 쳄버부 301
[그림 3-2] 증착온도에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의XRD 회절 패턴 302
[그림 3-3] 증착온도에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼 303
[그림 3-4] 증착온도에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의XRD 회절 패턴 304
[그림 3-5] 증착온도에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의 SEM 단면사진과 측정된 두께들 305
[그림 3-6] 증착온도에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼 306
[그림 3-7] 산소분압에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의 XRD 회절패턴들 307
[그림 3-8] 산소분압에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의 SEM 단면사진과 측정된 두께들 307
[그림 3-9] 산소분압에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의 (a) 여기 및 (b) 발광 스팩트럼 308
[그림 3-10] 산소분압에 따른 Eu₂W₂O9(이미지참조) 박막의 표면 SEM 사진 309