표제지
목차
Ⅰ. 개요 4
1. 분석 배경 및 목적 5
1-1. 분석 배경 5
1-2. 분석 목적 5
2. 분석 범위 6
2-1. 분석대상 특허 검색 DB 및 검색범위 6
2-2. 분석대상 기술 및 검색식 도출 7
2-3. 유효특허 선별 기준 및 결과 13
2-4. 특허기술동향조사 분석 방법 15
Ⅱ. IP 부상도 분석 16
1. 국가별 Landscape 17
1-1. 주요시장국 기술개발 활동현황 17
1-2. 기술시장 성장단계 파악 22
2. 경쟁자 Landscape 25
3. IP 부상도 분석 27
3-1. 추세선을 통한 출원증가율 분석 27
3-2. 최근 구간 점유율 분석 29
3-3. 특허 시장확보력 분석 31
Ⅲ. IP 장벽도 분석 32
Ⅳ. 특허분석 결론 및 시사점 33
판권기 34
〈표 1-1〉 검색 DB 및 검색범위 6
〈표 1-2〉 분석대상 기술분류 7
〈표 1-3〉 분석대상 기술분류기준 8
〈표 1-4〉 기술분류체계에 따른 최종 검색식 및 Raw Data 10
〈표 1-5〉 분석대상 기술분류 13
〈표 1-6〉 cm급 실내외 위치 측위 및 3D 스캐닝 기술을 활용한 증강현실 플랫폼 기술 분야의 유효특허 선별결과 14
〈표 2-1〉/〈표 2-5〉 경쟁자 Landscape 25
〈그림 2-1〉 전체 연도별 동향 17
〈그림 2-2〉 주요시장국 내ㆍ외국인 특허출원현황 19
〈그림 2-3〉 연도별 주요시장국 내ㆍ외국인 특허출원현황 20
〈그림 2-4〉 IP 포트폴리오로 파악한 기술시장 성장단계 22
〈그림 2-5〉 세부기술별 추세선 분석 27