본문 바로가기 주메뉴 바로가기
22대 대한민국 국회 국회정보길라잡이 국회의원검색
회원가입 로그인
HOME

정보검색

소장정보 검색

국회도서관 홈으로 정보검색 소장정보 검색
결과 내 검색 동의어 포함
결과 내 검색 동의어 포함

-

목차보기

표제지

국문요약

목차

1. 서론 11

1.1. 연구배경 11

1.2. 실험방법 선정 12

2. 문헌 조사 13

2.1. TMDCs (Transition Metal Dichalcogenides) 13

2.2. Magnetron Sputtering 15

3. 실험 방법 16

3.1. TMDC 물질 중 NiTe₂ 선정 16

3.2. NiTe₂ Compound Target 제조 17

3.3. NiTe₂ 박막의 제조 21

3.4. NiTe₂ 박막의 용매를 이용한 박리 22

3.5. NiTe₂ 박막 전기적, 광학적 특성 분석 23

4. 결과 및 고찰 24

4.1. Ni-Te Co-Sputtering 24

4.1.1. NiTe₂ 박막의 광학적, 전기적 특성 및 Te/Ni ratio 24

4.1.2. NiTe₂ Co-Sputtering 박막 XPS Binding energy 분석 27

4.2. NiTe₂ Compound Sputtering 31

4.2.1. Compound Sputtering 조건의 최적화 31

4.2.2. NiTe₂ Compound Sputtering 박막 박리 34

5. 결론 38

참고문헌 39

ABSTRACT 42

그림목차

Figure. 1. TMDCS 물질의 구성 원소 13

Figure. 2. NiTe₂ (Nickel Ditelluride) 구조 14

Figure. 3. Nickel-Tellurium Phase diagram 18

Figure. 4. 열처리 후 제작된 NiTe₂ alloy 이미지. 18

Figure. 5. 열처리 후 제작된 NiTe₂ alloy XRD 데이터 19

Figure. 6. 완성된 NiTe₂ Compound Target image 20

Figure. 7. 유지 열처리 시간에 따른 NiTe₂ 박막의 투과... 24

Figure. 8. (a) 유지 열처리 시간 별 NiTe₂ 박막의 Etch depth 별 Te/Ni... 25

Figure. 9. 유지열처리 별 박막 표면의 XPS Ni 2p spectrum (a) 10... 27

Fiugre. 10. 증가하는 Depth에 따른 유지열처리 별 박막 내부의 XPS Ni 2p... 28

Figure. 11. 증가하는 Depth에 따른 유지열처리 별 기판 인접 부분의 XPS... 29

Figure. 12. Watt 조건 별 두께에 따른 투과도, 비저항 (a) 60 W, (b) 90 W 32

Figure. 13. Watt 조건 별 박막 Depth에 따른 Te/Ni ratio (a) 60 W,... 32

Figure. 14. 60 W 조건에서 증착 두께에 따른 SEM 표면 image (a)... 33

Figure. 15. 각 Solvent Vol% 별 720 min Sonication 박리... 35

Figure. 16. 각 Solvent의 박리 최적 Vol % 조건에서의... 35

Figure. 17. 각 Solvent의 박리 최적 Vol % 조건에서의 720분... 37

방정식목차

Equation. (1) Van der pauw equation (Thin film Sheet Resistance) 23

Equation. (2) Resistance ratio(Ra) of thin film[이미지참조] 23

Equation. (3) Resistance ratio(Rb) of thin film[이미지참조] 23

초록보기

전이금속 디칼코겐화합물 중 Nickel ditelluride 박막은 Magnetron sputtering법을 통한 제작 후 용매를 활용한 Sonication 박리를 통해 투과도 68% (380 nm에서 71%), 비저항 290 μΩ·cm 특성을 가진 박막을 얻을 수 있었다.

본 연구는 먼저 Co-sputtering을 통한 증착 후 유지 열처리 시간에 대한 효과를 연구하였으며, 10min의 유지 열처리조건에서 조성 및 특성이 가장 좋은 것을 확인하였다. 10min의 유지열처리 조건에서 Ni : Te＝ 1 : 2의 조성 및 박막의 투과도 46%, 비저항 40μΩ·cm의 Nickel ditelluride 박막을 얻을 수 있었다. Ni target과 Te Target은 Co-sputtering 조건에 따라 2D material을 형성하는데, Ni : Te ＝ 1 : 2의 조성에 맞는 박막을 증착 시 높은 전도성을 가지면서, 층간 분리가 가능한 구조로 제조되어 이 후에 투명한 박막으로 제조할 수 있다. NiTe₂조성에 맞는 박막을 증착하기 위하여 Co-sputtering(RF : Te, DC : Ni)을 통해 기판에 증착 한 다음 유지열처리 후에 XPS를 통해 NiTe₂조성을 확인하였다. 우리는 이 결과를 통해 증착 박막이 Ni : Te ＝ 1 : 2의 조성을 Co-sputtering 증착 후 유지열처리를 진행함으로써 얻을 수 있다는 것을 확인하였다.

위의 Co-Sputtering 결과를 활용하여 가장 낮은 비저항과 높은 투과도 박막을 얻을 수 있는 Ni : Te ＝ 1 : 2 Atomic ratio를 가진 NiTe₂ Compound Target을 제작하여 Compound Sputtering을 진행하였다. Watt와 증착 시간 변경을 통해 60 W 473 K 70 s 조건에서 두께 6.3 nm 로 동일한 두께의 90 W 조건 대비 더 높은 투과도와 낮은 비저항을 나타내었다. 이를 Water 혼합 용매를 활용하여 박리한 결과 Ethanol/Water 60 vol%에서 투과도가 68% (380 nm에서 71%), 비저항 290 μΩ·cm 특성을 가진 박막을 얻을 수 있었다.

추천서가 (다양한 추천 자료를 만나보세요)

권호기사보기

권호기사 목록 테이블로 기사명, 저자명, 페이지, 원문, 기사목차 순으로 되어있습니다.
기사명 저자명 페이지 원문 기사목차