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목차
입자 분산도금법 / 今村貞彬 ; 伊藤光雄 1
입자 분산도금 1
1. 도금의 개요 1
2. 도금피막내로의 입자 분산재료 1
3. 도금피막의 특성 1
4. 입자 분산재의 종류와 특성 2
도금방법 2
1. 도금 전처리 3
2. 도금피막의 생성 3
3. 입자 분산도금 생성층의 상태 3
입자 분산도금의 피막특성 4
1. Ni-P-SiC (탄화규소) 4
2. Ni-P-BN (질화붕소) 5
3. Ni-P-PTFE(테프론) 5
입자 분산도금의 실적 응용 예 5
1. SiC(탄화규소) : Ni-P-SiC 피막 5
2. BN(질화붕소) : Ni-P-BN 6
3. PTFE(테프론) : Ni-P-PTFE 6
기사명 | 저자명 | 페이지 | 원문 | 목차 |
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3차원 CAD③ : 실천,「불 처리 가능한 모델러」 | 有泉徹 | pp.52-59 |
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연삭공구의 과제와 대응기술 | 小林博人 | pp.88-93 |
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가공을 위한 계측평가기기의 과제와 대응기술 | 依田幸二 | pp.94-98 |
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CO₂레이저에 의한 가공의 실제와 전망 | 新井武二 | pp.99-103 |
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입자 분산도금법 | 今村貞彬·伊藤光雄 | pp.104-109 |
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