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본 논문에서는 1개의 n 전극과 6개의 p 전극을 가지는 대면적 LED (light emitting diode)를 제작하였다. GaN을 기반으로 한 DH (double heterostructure) 에피층의 웨이퍼에 포토리소그래피와 전극형성을 위한 전자빔 증착법을 통해 6개의 발광영역을 구현하였다. LED 칩의 크기는 6 mm $\times$ 4 mm며, n 전극은 공통전극 (common electrode)이며 6개의 p 전극은 3개를 하나의 인가 전극으로 하여 2개의 공통전극을 형성하였다. 플립칩 패키징에 의해 6개의 영역에서 450 nm의 EL (electroluminescence) 파장을 확인하였으며, I-L (luminous flux)그래프를 통해 주입전류에 따른 빛의 세기를 조사하였다.In this research, a large-size GaN light emitting diode (LED) was fabricated with one n-electrode and six p-electrodes. The LED chip was fabricated on a wafer on which a GaN-based DH (double heterostructure) epilayer had been grown. Six emitting areas were formed by using photolithography and e-beam evaporation to make the electrodes. The LED chip was 6 mm $\times$ 4 mm. The n-electrode was used as the common electrode, and the six p-electrodes were used as two common electrodes, each with three p-electrodes. A 450-nm EL (electroluminescence) wavelength was emitted from the six emitting areas with flip-chip packaging. The illuminance of the light was also investigated by using current-luminous flux measurements.
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