권호기사보기
기사명 | 저자명 | 페이지 | 원문 | 기사목차 |
---|
대표형(전거형, Authority) | 생물정보 | 이형(異形, Variant) | 소속 | 직위 | 직업 | 활동분야 | 주기 | 서지 | |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
연구/단체명을 입력해주세요. |
|
|
|
|
|
* 주제를 선택하시면 검색 상세로 이동합니다.
목차 1
초음파 분사 노즐의 분사 범위에 따른 슬러리 막 두께의 변화가 재료제거율에 미치는 영향 = Effect of slurry film thickness variation according to spray range using ultrasonic spray nozzle on material removal rate / 허성녕 ; 정선호 ; 김민지 ; 박영욱 ; 정해도 1
[요약] 1
NOMENCLATURE 1
1. 서론 2
2. 연구 배경 2
2.1. 초음파 분사 노즐 2
2.2. 일반적인 웨이퍼와 접촉하는 슬러리 막 두께 계산 3
2.3. 실제 젖은 면적 비율(Real Wet Area Ratio, RWA)을 이용 한 막 두께 계산 3
3. 실험 방법 및 결과 분석 4
3.1. 분사 범위에 따른 범위 내 RWA 측정 실험 4
3.2. 분사 범위에 따른 CMP 공정 실험 4
4. 결론 6
REFERENCES 7
[저자소개] 8
번호 | 참고문헌 | 국회도서관 소장유무 |
---|---|---|
1 | Marty W. D., (2017), State of CMP materials, The Dow Chemical Company, 1-14. https://nccavs-usergroups.avs.org/wp-content/uploads/CMPUG2017/CMP-717-4-DeGroot-Dow.pdf | 미소장 |
2 | CMC Critical Materials Council, CMP consumables US$2.9B in 2021 for IC Fabs. https://criticalmaterials.org/techcet-news/ | 미소장 |
3 | Davis, S., (2017), Techcet CMP consumables 2015 market update, Techcet, 1-31. https://nccavs-usergroups.avs.org/wp-content/uploads/CMPUG2015/ CMP2015_7_5Davis.pdf | 미소장 |
4 | Lee, D., Lee, H., Jeong, H., (2016), Slurry components in metal chemical mechanical planarization (CMP) process: A review, International Journal of Precision Engineering and Manufacturing, 17(12), 1751-1762. | 미소장 |
5 | Coetsier, C., Testa, F., Carretier, E., Ennahali, M., Laborie, B., Mouton-Arnaud, C., Fluchere, O., Moulin, P., (2011), Static dissolution rate of tungsten film versus chemical adjustments of a reused slurry for chemical mechanical polishing, Applied Surface Science, 257(14), 6163-6170. | 미소장 |
6 | Liao, X., Sampurno, Y., Zhuang, Y., Philipossian, A., (2012), Effect of slurry application/injection schemes on slurry availability during chemical mechanical planarization (CMP), Electrochemical and Solid-State Letters, 15(4), H118. | 미소장 |
7 | Lee, D., Lee, H., Jeong, H., (2015), The effects of a spray slurry nozzle on copper CMP for reduction in slurry consumption, Journal of Mechanical Science and Technology, 29(12), 5057-5062. | 미소장 |
8 | Meled, A., Zhuang, Y., Sampurno, Y. A., Theng, S., Jiao, Y., Borucki, L., Philipossian, A., (2011), Analysis of a novel slurry injection system in chemical mechanical planarization, Japanese Journal of Applied Physics, 50(5S1), 05EC01. | 미소장 |
9 | Philipossian, A., Borucki, L., Sampurno, Y., Zhuang, Y., (2015), Novel slurry injection system for improved slurry flow and reduced defects in CMP, Solid State Phenomena, 219, 143-147. | 미소장 |
10 | Lee, D. S., (2020), Hybrid slurry supply system using ionization and atomization for sustainable CMP, Ph.D. Thesis, Pusan National University. | 미소장 |
11 | Ju, E., La, W., Choi, W., (1999), A study on characteristics of the liquid atomization by ultrasonic, Transactions of the Korean Society of Automotive Engineers, 7(5), 31-39. | 미소장 |
12 | Mandato, S., Rondet, E., Delaplace, G., Barkouti, A., Galet, L., Accart, P., Ruiz, T., Cuq, B., (2012), Liquids’ atomization with two different nozzles: Modeling of the effects of some processing and formulation conditions by dimensional analysis, Powder Technology, 224, 323-330. | 미소장 |
13 | Jeong, H., Lee, H., Choi, S., Shin, W., Lee, H., Jeong, H., (2010), Simplification of microtopography on CMP pad using surface roughness parameters, Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference, 153-154. | 미소장 |
14 | Lu, J., Rogers, C., Manno, V., Philipossian, A., Anjur, S., Moinpour, M., (2004), Measurements of slurry film thickness and wafer drag during CMP, Journal of the Electrochemical Society, 151(4), G241. | 미소장 |
15 | Lee, H., Park, B., Seo, H., Park, K., Jeong, H., (2005), A study on the characteristics of stick-slip friction in CMP, Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers, 18(4), 313-320. | 미소장 |
16 | Lee, H.-S., Park, B.-Y., Jeong, S.-H., Jeong, J.-W., Seo, H.-D., Jeong, H.-D., (2005), A study on stick-slip friction and scratch in Cu CMP, Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference, 653-654. | 미소장 |
*표시는 필수 입력사항입니다.
*전화번호 | ※ '-' 없이 휴대폰번호를 입력하세요 |
---|
기사명 | 저자명 | 페이지 | 원문 | 기사목차 |
---|
번호 | 발행일자 | 권호명 | 제본정보 | 자료실 | 원문 | 신청 페이지 |
---|
도서위치안내: 정기간행물실(524호) / 서가번호: 국내13
2021년 이전 정기간행물은 온라인 신청(원문 구축 자료는 원문 이용)
우편복사 목록담기를 완료하였습니다.
*표시는 필수 입력사항입니다.
저장 되었습니다.