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SUMMARY
목차
제1장 서론 11
제2장 반응성 DCMS법에의 한 ZnO:Al막 제조실험 14
제1절 반응성 sputtering 기구의 특성 14
1. 반응성 산소분압과 증착막의 특성 14
2. 반응실내에 산소의 분압과 산소유량과의 관계 17
3. 안정된 전이영역유지를 위한 system의 조건 18
제2절 ILS 1600 system 개요 21
제3절 실험방법 24
1. 낮은 반응실압에서 산소분압에 따르는 영향 25
2. 높은 반응실압에서 산소분압에 따르는 영향 26
3. 인가전력 상승에 따르는 영향 27
4. 일정한 산소비에서 인가전압의 변화에 따라 나타나는 영향 29
5. 열처리에 의한 영향 29
제3장 Microwave를(을) 이용한 DCMS법에 의한 ZnO:Al막 제조실험 31
제1절 Microwave를 이용한 sputtering의 작동원리 31
제2절 장치의 설치 34
제3절 실험방법 37
제4장 반응성 DCMS법으로 제막된 ZnO:Al 40
제1절 반응성 산소분압에 따른 제막특성 40
1. 낮은 반응실압에서 산소분압에 따르는 영향 40
2. 높은 반응실압에서 산소분압에 따르는 영향 46
제2절 인가전력의 변화에 따른 제막특성 53
1. 일정한 인가전력하에서 산소분압을 변화시킨 경우 53
2. 특정 산소비율에서 인가전압의 변화에 따라 나타나는 영향 61
제3절 XRD에 의한 막의 구조적 특성 분석 69
제5장 반응성 DCMS법에 의한 ZnO:Al막의 열처리 효과 74
제1절 전기적 특성향상 74
제2절 광학적 특성향상 82
제6장 Microwave를 이용한 DCMS법으로 제막된 ZnO:Al막 87
제1절 증착직후의 특성 87
제2절 열처리 후의 특성 93
제7장 결론 96
제1절 반응성 산소분압에 따른 제막특성 96
제2절 인가전력의 변화에 따른 제막특성 97
제3절 열처리에 따른 효과 98
참고문헌 101
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