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표제지
목차
요약 2
I. 개요 6
1. 분석 배경 및 목적 7
1-1. 분석 배경 7
1-2. 분석 목적 7
2. 분석 범위 9
2-1. 분석대상 특허 검색 DB 및 검색범위 9
2-2. 분석대상 기술 및 검색식 도출 10
2-3. 유효특허 선별 기준 및 결과 17
2-4. 분석 방법 19
II. 특허동향분석 20
1. 특허기술 Landscape 21
1-1. 주요 국가별 연도별 출원동향 21
1-2. 주요 국가별 내ㆍ외국인 출원동향 26
1-3. 특허기술 성장단계 31
2. 주요 출원인 분석 36
2-1. 주요 출원인 현황 36
2-2. 주요 출원인 출원동향 43
3. 세부기술별 Landscape 45
3-1. 세부기술별 특허동향 45
3-2. 세부기술 주요 출원인 분석 52
4. 소결 57
III. 지재권 중심의 핵심기술분석 59
IV. 특허분석 결론 및 시사점 60
1. 종합결론 61
2. 시사점 63
V. 부록 64
판권기 65
〈표 1-1〉 검색 DB 및 검색범위 9
〈표 1-2〉 분석대상 기술분류 10
〈표 1-3〉 분석대상 기술분류기준 11
〈표 1-4〉 기술분류체계에 따른 Raw Data 건수 12
〈표 1-5〉 기술분류체계에 따른 최종 검색식 13
〈표 1-6〉 분석대상 기술분류 17
〈표 1-7〉 유효특허 선별결과 18
〈표 2-1〉 다출원 기준 주요 출원인 36
〈표 2-2〉 국가별 다출원 기준 주요 출원인 39
〈표 2-3〉 신규 시장진입자 현황 분석(최근 5년) 41
〈그림 2-1〉 주요 출원국 연도별 특허동향 22
〈그림 2-2〉 주요 출원국 내ㆍ외국인 특허출원현황('90~'17) 26
〈그림 2-3〉 연도별 주요 출원국 내ㆍ외국인 특허출원현황 27
〈그림 2-4〉 특허기술 성장단계별 의미 31
〈그림 2-5〉 주요 국가별 특허기술 성장단계 32
〈그림 2-6〉 다출원 기준 주요 출원인(상위 21위) 국적 및 기관특성 비중 37
〈그림 2-7〉 주요 출원인별 주력기술분야 분석 43
〈그림 2-8〉 세부기술별 특허건수 현황 45
〈그림 2-9〉 세부기술별 연도별 특허동향 45
〈그림 2-10〉 하이퍼스펙트럴 측정 기술(AA)의 세부기술별 특허출원동향 47
〈그림 2-11〉 멀티모달 이미징 분석 기술(AB)의 세부기술별 특허출원동향 48
〈그림 2-12〉 지능형 진단 기술(AC)의 세부기술별 특허출원동향 49
〈그림 2-13〉 진단 시스템 구축 기술(AD)의 세부기술별 특허출원동향 50
〈그림 2-14〉 하이퍼스펙트럴 측정 기술(AA)의 주요출원인 52
〈그림 2-15〉 멀티모달 이미징 분석 기술(AB)의 주요출원인 53
〈그림 2-16〉 지능형 진단 기술(AC)의 주요출원인 54
〈그림 2-17〉 진단 시스템 구축 기술(AD)의 주요출원인 55
원문구축 및 2018년 이후 자료는 524호에서 직접 열람하십시요.
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