2010년 Andre Geim 과 Konstantin Novoselov 교수가 스카치 테이프를 이용하여 그래핀 단일층을 형성한 것으로 노벨 물리학상을 수상한 이후로 그래핀이라는 혁신적인 물질에 대한 연구가 폭발적으로 증가해왔다. 많은 연구자들이 우수한 특성을 가진 그래핀을 활용하여 괄목할 만한 연구 성과를 보여주고 있지만, 아직도 그래핀이 상용화되지 못하고 있는 것에는 의외로 그래핀을 만들 수 있는 적절한 방법이 부족하다는 것에서 그 이유를 찾을 수 있다. 본 연구를 통해서 우리는 그래핀 박막을 제조하는 하나의 새로운 방법을 제시하고자 하며, 기판 상에 직접 그래핀 필름을 성장시키는 이 새로운 저온 합성 방법은 한 챔버 안에서 모든 공정이 진행되는 단순하고 깨끗한 공정이라는 장점을 가지고 있다. 플라즈마 전자 어닐링 기술은 진공 챔버 내부에 형성된 유도 결합 플라즈마 속에 있는 전자들의 운동 에너지를 기판에 전달함으로써, 낮은 공정 온도에서도 실리콘 옥사이드 기판 위에 증착된 탄소 층을 그래핀 층으로 변화시키는 혁신적인 그래핀 합성법이다. 본 연구에서 제시하는 플라즈마 전자 어닐링을 통한 그래핀 박막을 제조법이 그래핀을 활용하는 다양한 응용 분야에 새로운 가능성을 열어 주기를 바란다.