실험실에서 자체제작된 Low Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition(LF PECVD) 시스템을 이용하여 DLC 박막을 증착시켰다. 이때, 공정 변수는 입력전력과 C₂H₄/Ar 혼합가스 비율을 변화시켰다. 기계적 특성과 구조적 특성을 분석하여, LF PECVD 시스템의 DLC 증착조건을 최적화하고자 하였다.
먼저 증착률의 경우 입력전력 변화시 최고 분당 약 34.8 nm 였으며, 혼합가스 비율 변화시 39. 6 nm가 최고 증착류이였다.
DLC 경도의 경우 입력전력이 증가할수록 선형적으로 증가해 최고 14.98 GPa를 얻었으며, 혼합가스 비율 변화 시 약 12.9 GPa로 거의일정하게 유지되었다.
라만 분석을 통해서 상대적으로 50 W에서 증착한 DLC가 가장 많은 sp³, sp² 구조를 가지고 있었다. 또한 광학적 밴드갭 측정 결과 2.13 eV로 가장 높았으며, 수소 함량 관련 식을 이용하여 수소 함량을 구한 결과 수소 함량 또한 33.67 %로 가장 많았다.
본 실험을 요약하자면 낮은 입력전력을 이용하여 증착하게 되면 상대적으로 sp³, sp², 수소가 다른 조건에 비해 많이 형성되었으며, 경도는 가장 낮게 증착된다. 결과적으로 C₂H₄양이 증가할수록 증착률이 증가한다. 또한 높은 경도의 DLC를 얻기 위해서는 높은 입력전력이 필요하다.