목차
1. 서론 1
2. Coated conductor 개요 및 초전도층 제조 방법 2
2.1. PLD (Pulsed laser deposition) 공정 4
2.2. MOD (Metal organic depostion) 공정 5
2.3. MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 공정 6
2.4. Co-evaporation 공정 6
2.5. 각 공정별 비교 7
3. 결론 8
참고문헌 8
Table 1. CC 제조 각 제조공정별 생산속도 및 초전도층 성장속도 비교 7
Fig. 1. 고온초전도체의 집합조직과 임계전류밀도의 상관관계. 1
Fig. 2. 제 2세대 YBCO 선재의 다층박막 구조. 2
Fig. 3. 제2세대 선재의 2축 배향된 기판을 제조하기 위해 개발된 대표적인 제조공정의 모식도. (a)와 (b)는 각각 IBAD template와 RABiTS 제조공정 모식도. 3
Fig. 4. 일본 Fujikura사 GdBCO CC의 임계전류 특성. 4
Fig. 5. 일본의 CC의 특성 현황 (2011) 및 향후 목표. 4
Fig. 6. 미국 AMSC사 박막선재 적층 도체의 임계전류 특성. 5
Fig. 7. 일본 ISTEC과 Showa전선에서 생산되는 CC의 임계전류 특성 및 CC 모식도. 6
Fig. 8. Superpower사에서 생산되는 CC의 임계전류 특성. 7
Fig. 9. 국가별 CC의 임계전류 (Ic) 및 길이 (L) 성능 비교. 7