목차
1. 서론 1
2. 전산유체역학의 개요 1
2.1. CFD 응용과 범위 1
2.2. 다중 물리현상의 이해 2
2.3. CFD를 통한 화학기상 증착법의 모사 3
3. 탄화규소 CVD 공정에의 CFD의 적용 3
3.1. CVD 공정의 개요 3
3.2. SiC CVD 공정에 대한 열역학 해석 4
3.3. 탄화규소의 CFD 해석의 예 4
3.4. CVD 챔버에 대한 열 유동해석 4
3.5. 탄화규소의 CVD 공정에 대한 화학반응 유동해석 5
4. 결론 5
참고문헌 6
Fig. 1. 탄화규소로 만든 반도체 치구들. 1
Fig. 2. 하수 처리장에서의 유체 유동 해석에 따른 유속 분포의 예측. 2
Fig. 3. CFD의 다중 물리 해석의 개념도. 2
Fig. 4. 열 이동과 유동해석의 다중 물리 해석 (방열판 구조에 따른 주변 기온 및 유속 분포). 2
Fig. 5. (a) Tonpilz형 세라믹 압전 트랜스듀서와 (b) 주파수에 따른 수중 음압의 지향성 해석 결과. 2
Fig. 6. 탄화규소의 CVD 증착 과정에 대한 모식도. 3
Fig. 7. MTS-H2 계에서 기상의 조성 C/Si와 H/Si에 따른 탄화규소의 단일 상 영역과 탄소 및 실리콘 과의 2 상 영역의 온도 의존성. 4
Fig. 8. (a) 이중 챔버로 구성된 탄화규소 증착을 위한 CVD 챔버의 단면 모식도와 CFD 열유동 해석을 통하여 얻어진 예상 온도분포. 5
Fig. 9. 2차원 평면에서 구현한 샘플의 위치 (a)와 각 위치에서 조성 (H/Si)에 따른 성장속도의 CFD 해석 결과(점선)와 실험치(원, 삼각표)의 비교. 5