학위논문
Plasma diagnostics and property analysis of low-carbon silicon nitride and silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition with trisilylamine = 트리실릴아민을 이용한 플라즈마 화학기상증착(PECVD) 공정으로 증착된 저탄소 실리콘 나이트라이드 및 실리콘 옥시나이트라이드 박막의 플라즈마 진단 및 물성 분석