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ECR 플라즈마와 습식 식각으로 게이트 리세스한 AlGaAs/InGaAs/GaAs PHEMT 소자의 전기적 특성연구 / 이철욱 ; 배인호 ; 최현태 ; 이진희 ; 윤형섭 ; 박병선 ; 박철순 1

Abstract 1

1. 서론 1

2. 실험 2

3. 결과 및 논의 2

3-1. 상호 전달 전도도 측정 2

3-2. 문턱전압 측정 3

3-3. 게이트 누설전류 측정 4

3-4. 드레인 포화전류 측정 4

3-5. 차단 주파수 측정 4

4. 결론 5

참고문헌 5

권호기사

권호기사 목록 테이블로 기사명, 저자명, 페이지, 원문, 기사목차 순으로 되어있습니다.
기사명 저자명 페이지 원문 목차
진공증착중합법에 의해 제조된 폴리이미드 박막의 플라즈마 처리에 의한 표면의 변화 김형권 外 pp.340-346

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NVSM 회로설계를 위한 SONOSFET SPICE 파라미터의 최적화 김병철 外 pp.347-352

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IC 몰딩 콤파운드 재료의 파괴 인성치 Ⅱ 김경섭 ; 신영의 pp.353-357

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Retrograde Well 형성을 위한 고에너지 이온주입에 대한 연구 윤상현 ; 곽계달 pp.358-364

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ECR 플라즈마와 습식 식각으로 게이트 리세스한 AlGaAs/InGaAs/GaAs PHEMT 소자의 전기적 특성연구 이철욱 外 pp.365-370

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탄소의 원료로 일산화탄소를 사용한 다이아몬드 박막 성장 관찰에 대한 분광 Ellipsometry의 응용 홍병유 pp.371-377

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용융염 합성법에 의해 제조된 압전 세라믹(PZT)의 미세구조 및 첨가물의 효과 이수호 外 pp.378-383

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전해질 입자크기에 따른 용융탄산염 연료전지 전해질 지지체의 두께변화에 관한 연구 이형근 外 pp.384-393

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Pb(Y⅔W⅓)O₃-Pb(Zr,Ti)O₃계 세라믹스의 고출력 특성 윤석진·Uchino,Kenji pp.394-399

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저손실 Ti:LiNbO₃ 광도파로제작 및 BPM 해석 김성구 外 pp.400-406

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평탄한 통과대역 특성을 갖는 위상배열 WDM 필터의 설계 최대필 外 pp.407-412

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FeCoB계 아몰퍼스 자성박막의 인덕턴스의 주파수의존성 신용진 外 pp.413-417

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대향타겟스퍼터링에 의한 Co-Cr 박막의 제작 김경환 外 pp.418-422

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참고문헌 (11건) : 자료제공( 네이버학술정보 )

참고문헌 목록에 대한 테이블로 번호, 참고문헌, 국회도서관 소장유무로 구성되어 있습니다.
번호 참고문헌 국회도서관 소장유무
1 An analytical study of etch and etch-stop reactions for GaAs on AlGaAs in CCl₂F₂ plasma 미소장
2 Selective reactive ion etching in SiCl₄/SiF₄ plasma for gate recess in GaAs/AlGaAs modulation-doped field effect transistors 미소장
3 Reactive Ion Etching oc GaInP, GaAs, and AlGaAs 미소장
4 The tunneling current in $In_{0.53}Ga_{0.47}$As junction field-effect transistors 미소장
5 Microwave Plasma Etching 미소장
6 Low-energy ion extended with small dispersion from an electron cycrotron resonance microwave plasma stream 미소장
7 Plasma etching in magnetic multipole microwave discharge 미소장
8 Electron cyclotron resonance microwave discharges for etching and thin-film deposition 미소장
9 Pulse-Doped AlGaAs/InGaAs Pseudomorphic MODFET's 미소장
10 Noise in AlGaAs/InGaAs/GaAs Pseudomorphic HEMTs from 10 Hz to 18 GHz 미소장
11 0.25㎛ Pseudomorphic HEMTs Processed with Damage-Free Dry-Etch Gate-Recess Technology 미소장