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In this study, we carried out an investigation of the etching characteristics (etch rate, selectivity to SiO₂ and HfO₂) of TiN thin films in the CH₄/Ar inductively coupled plasma. The maximum etch rate of 274?/ min for TiN thin films was obtained at CH4(80%)/Ar(20%) gas mixing ratio. At the same time, the etch rate was measured as function of the etching parameters such as RF power, Bias power, and process pressure. The X-ray photoelectron spectroscopy analysis showed an efficient destruction of the oxide bonds by the ion bombardment as well as showed an accumulation of low volatile reaction products on the etched surface. Based on these data, the ion-assisted chemical reaction was proposed as the main etch mechanism for the CH₄ containing plasmas.

권호기사

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기사명 저자명 페이지 원문 목차
Ti-30Ta-(3~15)Nb 합금에 HA/Ti 복합 코팅한 표면의 교류임피던스 특성 정용훈 ;이호종 ;문영필 ;박근형 ;장승현 ;손미경 ;최한철 pp.181-188

CH₄ 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구 우종창 ;엄두승 ;김관하 ;김동표 ;김창일 pp.189-193

Surface modification of multi-walled carbon nanotubes for enhancement of dispersion and electrochemical properties Young-Ja Kim ;Wentao Zhang ;Hong-Ro Lee ;Jong-Hyee Kim pp.194-198

대향식 스퍼터링법으로 증착된 ITO 양극 위에 제작된 OLED 성능 윤 철 ;김상호 pp.199-204

3차원 입자 모델을 이용한 마그네트론 스퍼터링 음극의 특성 분석 주정훈 pp.205-213

DC마그네트론 스퍼터링법으로 PET 기판위에 저온 증착한 ITO박막의 비저항과 굽힘 저항성에 대한 RF인가의 영향 박미랑 ;이성훈 ;김도근 ;이건환 ;송풍근 pp.214-219

대기 플라즈마 용사공정을 이용한 Fe계 벌크 비정질 금속 코팅의 초기 분말의 화학조성과 크기에 대한 미세 조직 및 마모 특성 김정환 ;윤상훈 ;나현택 ;이창희 pp.220-225

다양한 유사체액과 인공타액에서 치과용 임플란트의 전기화학적 특성 김태한 ;박근형 ;손미경 ;김원기 ;장승현 ;최한철 pp.226-231

ZrN 및 TiN, 코팅된 치과교정 용 미니나사의 표면특성과 전기화학적 거동 김신영 ;문영필 ;박근형 ;조호형 ;김원기 ;손미경 ;최한철 pp.232-239

비수용액 전해질에서 전기도금한 니켈-TiO₂ 복합 도금층의 표면 및 광분해 특성 연구 조일국 ;지창욱 ;최철영 ;김영석 ;김양도 pp.240-244

진공 소결 방식을 이용한 통기성 금형 소재 개발 김동원 ;조규일 ;김현근 ;강자연 ;이원혁 ;황금철 pp.245-253

참고문헌 (9건) : 자료제공( 네이버학술정보 )

참고문헌 목록에 대한 테이블로 번호, 참고문헌, 국회도서관 소장유무로 구성되어 있습니다.
번호 참고문헌 국회도서관 소장유무
1 A. Le Gouil, (2007) , J. Vac. Sci. Tech. B 미소장
2 G. H. Kim, (2007) , Ferroelectrics 미소장
3 W. T. Chang, (2007) , J. Vac. Sci. Technol. B 미소장
4 S. M. Sze, (1983) VLSI Technology, McGraw-Hill Book Company 미소장
5 R. H. Dennard, (1974) , IEEE J. Solid State Circuits 미소장
6 W. S. Hwang, (2005) , J. Vac. Sci. Technol. A 미소장
7 K. B. Jung, (1999) , J. Vac. Sci. Technol. A 미소장
8 D. R. Lide, (2004) Handbook of Chemistry, CRC Press 미소장
9 B. Y. Jeong, (2000) , J. Kor. Inst. Met & Mater 미소장

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