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이 논문에서는 하프늄을 기반으로한 Al₂O₃-HfO₂-Al₂O₃ (AHA) 와 SiO₂-HfO₂-SiO₂ (SHS)의 샌드위치 구조 MIM 캐패시터의 DC, AC 전압 스트레스에 따른 신뢰성을 분석하였다. 두 MIM 캐패시터 모두 높은 정전용량 밀도(8.1 fF/μm2 and 5.2 fF/μm2)를 가지고 낮은 누설전류 밀도를 가진다. 유전체 내의 charge trapping효과에 의해 정전용량은 증가하고 생성된 trap에 의해 캐리어의 이동도는 감소하게 된다. DC 전압 스트레스를 인가하는 경우가 AC 전압스트레스를 인가하는 경우에 비해 정전용량(ΔC/C0)과 전압안정성(α/α0)의 큰 변화를 나타낸다.
In this paper, reliability of the two sandwiched MIM capacitors of Al₂O₃-HfO₂-Al₂O₃ (AHA)
and SiO₂-HfO₂-SiO₂ (SHS) with hafnium-based dielectrics was analyzed using two kinds of voltage
stress; DC and AC voltage stresses. Two MIM capacitors have high capacitance density (8.1 fF/μm2 and
5.2 fF/μ㎡) over the entire frequency range and low leakage current density of ∼1 nA/㎠ at room
temperature and 1 V. The charge trapping in the dielectric shows that the relative variation of
capacitance (ΔC/C_0) increases and the variation of voltage linearity (α/α_0) gradually decreases with
stress-time under two types of voltage stress. It is also shown that DC voltage stress induced greater
variation of capacitance density and voltage linearity than AC voltage stress.| 번호 | 참고문헌 | 국회도서관 소장유무 |
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