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High-tech microelectronics industry is known as one of the most chemical-intensive industries. In Korea, Microelectronics industry occupied 38% of export and 16% of working employees work in microelectronics industry. But, chemical information and health hazards of high-tech microelectronics

manufacturing are poorly understood because of rapid development and its penchant for secrecy. We need to investigate on chemical use and exposure control. We Site-visits to 6 high-tech microelectronics manufacturing

company which have cleanroom work using over 1,000kg organic solvents (5 semi-conductor chips and its related parts company, 1 liquid crystal display (LCD)). We reviewed their data on chemical use and ventilation system, and measured TVOCs (Total Volatile Organic Compounds) and carbon

dioxide concentration. All cleanroom air passed through hepa filters to acheive low particle levels and only 1 cleanroom uses carbon filters to

minimize the organic solvents exposures In TVOC screening test, Cleanroom for semi-conductor chips and its related parts company with laminar down flow system (e.g. class 1~100) showed nondetectable level of TVOCs concentration , but Cleanroom for liquid crystal display(LCD) with conventional flow system (e.g. class 1,000~10,000) showed 327 ppm as TVOCs.

Acetone concentration in cleanroom for Jig cleaning, LC Injection, Sealing processes were 18.488ppm (n=14), 49.762 ppm (n=15), 8.656 ppm (n=14) as arithmetric mean. Acetone concentration in cleanroom for LCD inspection process was 40ppm (n=55) as geometric mean, where the range was

7.8~128.7ppm and weakly correlated with ventilation rate efficiency(r=0.44, p<0.05). To control organic solvents in cleanrooms, chemical and carbon filters should be installed with hepa filters. Even though their volatile organic compounds concentration was not exceed to occupational exposure limits, considering of entrance limited cleanroom environment, long-term period exposure effects and adverse health effects of cleanroom worker need further reseach.

권호기사

권호기사 목록 테이블로 기사명, 저자명, 페이지, 원문, 기사목차 순으로 되어있습니다.
기사명 저자명 페이지 원문 목차
전자산업 청정실의 작업환경 및 유해물질농도 평가 정은교, 박현희, 신정아, 장재길 pp.280-287

사업장 보건관리자의 직무스트레스 및 직무만족도가 조직애착에 미치는 영향 최은석, 박기수, 강윤식, 홍대용, 박만철, 김보경, 이경우 pp.250-260

석면 분석방법에 대한 고찰 함승헌, 황성호, 윤충식, 박동욱 pp.213-232

일부 종합병원 내시경실 근무자의 포름알데히드 노출에 관한 연구 김정훈, 김대종, 김현욱 pp.195-201

한국과 일본 근로자의 프리젠티즘과 스트레스, 건강문제, 결근율, 생산성의 관계 이영미 pp.202-212

HRSG건물 온도제어를 위한 환기방안에 관한 수치적 연구 김철환, 최훈기, 이종욱, 유근종 pp.240-249

수술실 간호사의 작업관련성 근골격계 질환과 인간공학적 작업평가 이천옥, 안연순, 원종욱, 이신영, 김치년, 노재훈, 곽우석 pp.171-181

운동처방 프로그램을 통한 중·고령 근로자의 체력향상을 통한 노동력 증진 양동주, 김윤희, 강동묵, 양영애, 유장진 pp.297-306

인쇄업 종사자의 혼합유기용제 노출로 인한 자각증상 및 위해성 평가 김영미, 김현욱 pp.270-279

작업환경측정제도 규제 순응 실태 변상훈, 이관형, 피영규, 유계묵 pp.233-239

Superoxide Dismutase가 배양인체피부멜라닌세포의 산화적 스트레스에 미치는 영향 서영미, 김남송 pp.261-269

여수지역 비정규직 플랜트 건설 근로자의 안전보건 실태와 개선방안 최상준, 김신범 pp.182-194

우리나라 석면 취급 산업장 석면 농도에 대한 고찰 박동욱, 최상준, 윤충식 pp.307-320

석면분석 정도관리용 표준시료 개발연구. 2, Amosite 및 Chrysotile 표준시료 평가 이광용, 윤충식, 한진구, 윤문종, 박두용, 정시정, 이종한, 이인섭 pp.288-296

참고문헌 (23건) : 자료제공( 네이버학술정보 )

참고문헌 목록에 대한 테이블로 번호, 참고문헌, 국회도서관 소장유무로 구성되어 있습니다.
번호 참고문헌 국회도서관 소장유무
1 정은교, 박현희 등. 작업장 최적환기효율 유지방안 연구. 한국산업안전보건공단 산업안전보건연구원 연구보고서. 한국산업안전공단. 2007. 미소장
2 김종열 등 역. 클린룸환경의 계획과 설계. 일본공기청정협회. Ohmsha&태훈출판사. 2005. 미소장
3 Assessment of indoor ventilation in commercial office buildings 소장
4 (주)신성이엔지. 클린룸·바이오 클린룸. 도서출판 한미,2005. 미소장
5 국내 공기청정산업 현황 및 기술개발 동향 소장
6 산업용 클린룸의 환경조건 네이버 미소장
7 김무환 등. 공기조화 및 냉동, 피어슨 에듀케이션 코리아, 2002. 미소장
8 김교두 역. 공기조화·위생공학편람 ; 공기조화편, 도서출판금탑, 1983. 미소장
9 강동묵. 화학물질 노출기준 제·개정 연구 및 산업보건편람작성(IPA). 노동부. 2005. 미소장
10 노동부. 화학물질 및 물리적인자 노출기준(고시 제2008-26호). 노동부. 2008. 미소장
11 노동부. 전국제조업체작업환경실태조사(2004). 노동부.2005. 미소장
12 정지연 등. 사무실 공기질 평가 및 관리기준 개발(Ⅰ,Ⅱ). 한국산업안전보건공단 산업안전보건연구원 연구보고서.한국산업안전공단. 2004. 미소장
13 한국산업안전공단 산업안전보건연구원(2004). 유해물질별작업환경측정방법, KOSHA Code A-1-2004. 한국산업안전공단. 미소장
14 Health issues in the global semiconductor industry. 네이버 미소장
15 HSE. Cancer among current and former workers at NationalSemiconductor. Greenock. 2001. 미소장
16 Health and safety executive inspection of U.K. semiconductor manufacturers. 네이버 미소장
17 ACGIH. Industrial Ventilation- A Manual of Recommended Practice, 25th ed. Ohio:ACGIH.; 2002. 미소장
18 National Institute of Occupational Safety and Health(NIOSH). NIOSH Manual of Analytical Method. 4th ed., NIOSH, Cincinnati, Ohio, 1994. 미소장
19 ACGIH. Hazard assessment and control technology in semiconductor manufacturing. LEWIS PUBLISHERS, INC. 25th ed. Ohio, Oct. 20-22, 1987. 미소장
20 Michael E. Williams, David G. Baldwin, Paul C. Manz, Semiconductor industrial hygiene handbook. monitoring, ventilation, equipment and ergonomics,. Noyes Publications. 1995. 미소장
21 Y. K. Chuah, C-H. Tsai, S. C. Hu, Simultaneous control of particle contamination and VOC pollution under different operating conditions of a mini-environment that contains a coating process, Electronics Research and Service Organization, Industrial Technology Research Institute, Chutung, Taiwan,1999. 미소장
22 Lewis Scarpace, Michel Williams, David Baldwiny, James Stewart, Results of Industrial hygiene sampling in semiconductor manufacturing operations, LEWIS PUBLISHERS, ACGIH, 1987. 미소장
23 Patterns of chemical use and exposure control in the Semiconductor Health Study. 네이버 미소장

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