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목차

표제지=0,1,1

제출문=1,2,1

보고서 초록/이정중=2,3,1

요약문=3,4,7

SUMMARY=10,11,4

CONTENTS=14,15,1

목차=15,16,1

제1장 연구개발과제의 개요=16,17,1

제1절 연구개발의 개요=16,17,1

제2절 연구개발의 필요성=17,18,3

제3절 연구개발의 목표 및 내용=19,20,2

제2장 국내외 기술개발 현황=21,22,2

제3장 연구개발수행 내용 및 결과=23,24,1

제1절 습식 Cr 도금법 대체를 위한 ICP-Thermal Evaporation 공정 개발=23,24,7

제2절 ICP-Sputtering을 통한 장식용 코팅 기술 개발=30,31,12

제3절 ICP-Thermal Evaporation Cr 도금 기술 최적화=42,43,13

제4절 ICP-Sputtering을 이용한 TiN,TiO₂코팅 기술 개발=55,56,37

제5절 저온 TiN 코팅 공정 확립을 위한 플라즈마 분석=92,93,5

제6절 시작품 제작 및 평가=97,98,7

제7절 ICP-Sputtering을 이용한 (Ti,Al)N 박막 증착 기술=104,105,15

제8절 ICP-Sputtering으로 제조된 (Ti,Cr)N 박막의 기계적 특성 평가=119,120,17

제9절 ICP-CVD에 의한 증착된 저온 TiN 박막의 특성=136,137,9

제10절 ICP 응용 system의 플라즈마 공정 분석=145,146,8

제11절 ICP 응용 system의 모니터링 및 제어 시스템 설계=153,154,11

제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도=164,165,1

제1절 계획대비 달성도=164,165,5

제2절 관련분야 기술 발전에의 대외 기여도=169,170,4

제5장 연구개발결과의 활용계획=173,174,2

제6장 참고문헌=175,176,3

연구결과 활용계획서=178,179,11

영문목차

[title page etc.]=0,1,14

CONTENTS=14,15,2

Chapter 1. Introduction=16,17,5

Chapter 2. State of the Art=21,22,2

Chapter 3. Research Results=23,24,1

1. Study on the ICP-Thermal Evaporation for chromium coatings=23,24,7

2. Decorative coatings using ICP-Sputtering technique=30,31,12

3. Optimization of chromium coating process using ICP-Thermal Evaporation=42,43,13

4. TiN,TiO₂coatings using ICP-Sputtering technique=55,56,37

5. Plasma diagnostics for low temperature deposition of TiN coatings=92,93,5

6. Production and evaluation of products=97,98,7

7. (Ti,Al)N coatings using ICP-Sputtering technique=104,105,15

8. (Ti,Cr)N coatings using ICP-Sputtering technique=119,120,17

9. Low temperature deposition of TiN coatings using ICP-CVD=136,137,9

10. Plasma diagnostics of ICP systems=145,146,8

11. Monitoring and control of ICP process=153,154,11

Chapter 4. Research Achievement=164,165,9

Chapter 5. Plans for Research application=173,174,2

Chapter 6. References=175,176,14

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