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목차

표제지=0,1,1

제출문=1,2,1

보고서 초록/박종철=2,3,1

요약문=3,4,3

SUMMARY=6,7,1

CONTENTS=7,8,1

목차=8,9,1

제1장 연구개발 과제의 개요=9,10,1

제1절 연구개발의 필요성=9,10,6

제2절 연구개발의 목표 및 범위=14,15,6

제2장 국내외 기술개발 현황=20,21,1

제1절 국외의 연구개발 현황=20,21,3

제2절 국내의 연구개발 현황[원문불량;p.27]=23,24,5

제3장 연구개발 수행 내용 및 결과=28,29,1

제1절 후막 미세라인 형성 기술:I. 포토이미징=28,29,33

제2절 후막 미세라인 형성 기술:II. 포토에칭=61,62,19

제3절 적층공정과의 결합 기술 개발:Series & Parallel 공정=80,81,8

제4절 내장형 미세라인 인덕터민(L) 개발=88,89,12

제5절 내장형 고정밀 캐패시터(C) 개발=100,101,7

제6절 고주파 신호전달을 이용한 기판재료 특성평가 기술=107,108,25

제7절 마이크로파 대역 분포소자 개발=132,133,19

제8절 감광성 전도체 (Ag) 페이스트 개발=151,152,32

제9절 감광성 유전체 (LTCC) 페이스트 개발=183,184,12

제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도=195,196,1

제1절 계획대비 목표달성도=195,196,4

제2절 관련분야에의 기여도=199,200,1

제5장 연구개발 결과의 활용계획=200,201,1

제1절 추가연구의 필요성=200,201,4

제2절 타 연구에의 응용=204,205,1

제3절 기업화 추진방안=204,205,1

제6장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보=205,206,5

제7장 참고문헌=210,211,5

영문목차

[title page etc.]=0,1,7

CONTENTS=7,8,2

Chapter 1. Outline of Research & Development Project=9,10,1

Section 1. Necessities of the R&D project=9,10,6

Section 2. Purpose & Scope of the R&D Project=14,15,6

Chapter 2. Worldwide & Domestic Trends of Technology Development=20,21,1

Section 1. Worldwide Trends of the Technology Development=20,21,3

Section 2. Domestic Trends of e Technology Development[원문불량;p.27]=23,24,5

Chapter 3. Results of Research & Development=28,29,1

Section 1. Formation of Thick-Film Fine-Line:I. Photoimaging=28,29,33

Section 2. Formation of Thick-Film Fine-Line:II. Photoetching=61,62,19

Section 3. Technologies Combined with Multilayering:Series & Parallel Process=80,81,8

Section 4. Development of Embedded Fine-Line Inductors=88,89,12

Section 5. Highly Precise Embedded Capacitors=100,101,7

Section 6. Characterization of Substrate Material Using HF Signal Transmission=107,108,25

Section 7. Development of Microwave Distributed Components=132,133,19

Section 8. Development of Photosensitive Conductor (Ag) Paste=151,152,32

Section 9. Development of Photosensitive Dielectric (LTCC) Paste=183,184,12

Chapter 4. Degree of Achievement Compared to Planned Target and Contribution for Related Field=195,196,1

Section 1. Degree of Achievement Compared to Planned Target=195,196,4

Section 2. Contribution for Related Field=199,200,1

Chapter 5. Application Plan of R&D Results=200,201,1

Section 1. Necessities for Additional Research=200,201,4

Section 2. Application for Other Research Field=204,205,1

Section 3. Strategies for Industrialization=204,205,1

Chapter 6. Oversea Technology Information Collected during the R&D=205,206,5

Chapter 7. References=210,211,5

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