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목차

표제지=0,1,1

제출문=1,2,1

보고서 초록/고석근=2,3,1

요약문=3,4,3

CONTENTS=6,7,3

목차=9,10,2

제1장 연구개발과제의 개요=11,12,1

제1절 연구개발의 목적=11,12,1

제2절 연구개발의 필요성=11,12,1

1. 연구개발의 경제ㆍ사회ㆍ기술적 중요성=11,12,2

가. 기술적 측면=12,13,2

나. 경제ㆍ산업적 측면=13,14,2

다. 사회ㆍ문화적 측면=14,15,2

제2장 국내외 기술개발 현황=16,17,2

제3장 연구개발수행 내용 및 결과=18,19,1

제1절 저온공정의 고품질 투명전도성 산화물 박막제조 기술개발=18,19,1

1. 이론적 고찰=18,19,1

가. 이온과 고분자 표면의 반응=18,19,2

나. 젖기와 표면에너지 계산=19,20,5

다. Indium Tin Oxide (ITO) 박막증착=23,24,12

2. 실험 방법=34,35,1

가. 이온빔 표면처리=34,35,3

나. ITO 박막 증착=36,37,3

다. 특성 분석=38,39,2

3. 결과 및 고찰=40,41,1

가. 고분자 기판의 접착력 향상을 위한 표면처리 기술개발=40,41,32

나. 투명전도막의 저온 성장 기술 개발=72,73,40

다. In-situ 저항측정에 의한 박막성장모드 진단=112,113,9

참고문헌=121,122,3

제2절 이온빔 표면처리의 대면적 연속처리 기술개발=124,125,1

1. 쉬트 방식의 연속 이온빔 표면처리 기술개발=124,125,5

2. 롤 방식의 연속 이온빔 표면처리 기술개발=128,129,5

제3절 최적조건 플라즈마 존에 의한 플라즈마 고분자막의 물성 제어 기술 개발=133,134,1

1. 최적조건 플라즈마 존의 플라즈마 상태진단 기술=133,134,1

가. 연구배경=133,134,3

나. 실험방법=135,136,6

다. 결과 및 고찰=140,141,35

2. 최적조건 플라즈마 존에 의한 플라즈마 고분자 막 제조기술=175,176,1

가. 연구배경=175,176,3

나. 실험방법=178,179,4

다. 결과 및 고찰=182,183,74

참고문헌=256,257,6

제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도=262,263,1

제1절 연구개발목표의 달성도=262,263,3

제2절 관련분야의 기술발전에의 기여도=265,266,1

제5장 연구개발결과의 활용계획=266,267,1

제1절 추가연구의 필요성=266,267,1

제2절 대표적 연구개발 결과=267,268,2

제3절 연구개발결과의 활용계획 및 활용가능성=269,270,1

특정연구개발사업 연구결과 활용계획서=270,271,15

영문목차

[title page etc.]=0,1,6

CONTENTS=6,7,5

Chapter 1. A Summary of R&D Project=11,12,1

Paragraph 1. Aims of R&D=11,12,1

Paragraph 2. Need of R&D=11,12,1

1. Importances of R&D=11,12,2

가. Technical aspects=12,13,2

나. EconomicalㆍIndustrial aspects=13,14,2

다. SocialㆍCultural aspects=14,15,2

Chapter 2. Current status of domestic／abroad technology development=16,17,2

Chapter 3. Contents and Results achieved by R&D=18,19,1

Paragraph 1. Fabrication technology of high quality transparent conducting oxide at low temperature=18,19,1

1. Theoretical background=18,19,1

가. Reaction between ion and polymer surface=18,19,2

나. Wetting and calculation of surface energy=19,20,5

다. Indium Tin Oxide(ITO) thin film deposition=23,24,12

2. Experimental=34,35,1

가. Ion beam surface modification=34,35,3

나. ITO thin film deposition=36,37,3

다. Characterizations=38,39,2

3. Results and discussion=40,41,1

가. Development of surface modification technique for improvement in adhesion of polymer substrate=40,41,32

나. fabrication technology of TCO at low temperature=72,73,40

다. Diagnosis of thin film growth mode by measurement of In-situ resistance=112,113,9

References=121,122,3

Paragraph 2. Development of continuous ion beam surface modification on large scale area=124,125,1

1. Development of continuous ion beam surface modification in sheet feeding system=124,125,5

2. Development of continuous ion beam surface modification in roll-to-roll system=128,129,5

Paragraph 3. Development of technology controlling properties of plasma polymer by optimum plasma zone=133,134,1

1. Diagnosis technology of plasma state in optimum plasma zone=133,134,1

가. Research background=133,134,3

나. Experimental=135,136,6

다. Results and discussion=140,141,35

2. Plasma polymer formation technology using optimum plasma zone=175,176,1

가. Research background=175,176,3

나. Experimental=178,179,4

다. Results and discussion=182,183,74

References=256,257,6

Chapter 4. Accomplishment of aims and contribution to related fields=262,263,1

Paragraph 1. Accomplishment of aims=262,263,3

Paragraph 2. Contributions to related fields=265,266,1

Chapter 5. Application plan of R&D results=266,267,1

Paragraph 1. Need of further research=266,267,1

Paragraph 2. Main R&D results=267,268,2

Paragraph 3. Application plan and possibility of R&D results=269,270,16

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