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목차

[표제지 등]=0,1,2

제출문=0,3,1

보고서 초록=0,4,1

요약문=i,5,4

Summary(영문요약문)=v,9,6

목차=xi,15,1

Contents(영문목차)=xii,16,1

표목차=xiii,17,1

그림목차=xiv,18,2

제1장 연구개발과제의 개요=1,20,1

1절 연구개발의 목적=1,20,1

2절 연구개발의 필요성=1,20,4

3절 연구개발의 범위=4,23,2

제2장 국내외 기술개발 현황=6,25,1

1절 국내외 기술개발 현황=6,25,3

2절 연구결과가 국내외 기술개발현황에서 차지하는 위치=8,27,1

제3장 연구개발수행 내용 및 결과=9,28,1

1절 이온소스=9,28,31

2절 연구내용=39,58,10

3절/4절 연구결과=48,67,5

제4장 연구개발 목표달성도 및 관련분야의 기여도=53,72,1

1절 연구개발 목표달성도=53,72,1

2절 관련분야 기여도=53,72,1

제5장 연구개발결과의 활용계획=54,73,1

1절 추가연구의 필요성=54,73,1

2절 타 연구에의 응용=54,73,2

3절 기업화 추진방안=55,74,2

제6장 연구개발과정에서 수집한 해외 과학기술정보=57,76,1

제7장 특허출원=58,77,24

표목차

표 1.1. 개발내용 및 파라미터=4,23,1

표 4.1./표 2. 연구목표별 달성도=53,72,1

그림목차

그림 1.1. 개발하려는 이온원의 조립도=5,24,1

그림 1.2. 고전압 대전류 이온소스의 전원구성도=5,24,1

그림 3.1. Schematic Drawing Of A Generalized Ion Source=9,28,1

그림 3.2. The Electrical Efficiency, η(E) As A Function Of V(*)(eV/Ion) And The Accelerating Potential V(0)(이미지 참조)=12,31,1

그림 3.3. Illustration Of Direct Ion Impact On An Accelerating Grid Due To Improper Design Of The Grid=15,34,1

그림 3.4. The Defocusing Of An Ion Beam a)Properly Optimized Ion Trajectories At The Operating Voltage b)Off-Opimum Opeating Voltage=16,35,1

그림 3.5. Illustration Of Am Optimum Ion Trajectory, Above Centerline For A Three-Electrode Accelerating Grid System, Below The Centerline Illustration Of An Overfocused Ion Trajectory=17,36,1

그림 3.6. Optimization Of Ion Trajectories In An Accel-Decel Three-Electrode Source (a) The Parameters Which Must Be Optimized To Ensure Proper Focusing Of The Ion Trajectories (b)Focused Ion...(이미지 참조)=18,37,1

그림 3.7. Kaufmann Ion Source=20,39,1

그림 3.8. Varions Cathode Configuration Of Kaufmann Ion Source=21,40,1

그림 3.9. Gas Feed Mechanisms For The Kaufmann Ion Source=22,41,1

그림 3.10. Magnetic Field Configuration Of Kaufmann Ion Source=22,41,1

그림 3.11. The Penning Ion Source With A Cylindrical Anode Ring At The Center And Two Cathodes At Either End=23,42,1

그림 3.12. A Penning Ion Source In The DuoPIGatron Configuration=25,44,1

그림 3.13. A Penning Ion Source In The Calutron Configuration=25,44,1

그림 3.14. The Sputtering Ion Source=26,45,1

그림 3.15. The Capillary Arc Source=27,46,1

그림 3.16. The Perpendicular Beam-Plasma Source=28,47,1

그림 3.17. The Parallel Beam-Plasma Ion Source=29,48,1

그림 3.18. The Von Ardenne Ion Source=30,49,1

그림 3.19. The Capillaritron Ion Source=30,49,1

그림 3.20. The Zinn Ion Source=31,50,1

그림 3.21. The Electron Heated Vaporization Source Operates In A Manner Similar To That Of The Zinn Source=32,51,1

그림 3.22. The Magnetized Hollow Cathode Ion Source=32,51,1

그림 3.23. The Free Ion Source=33,52,1

그림 3.24. The 'Canal Ray' Source=34,53,1

그림 3.25. The Pulse Spark Ion Source=35,54,1

그림 3.26. The Field Emission Ion Source With Gas Field=35,54,1

그림 3.27. The Field Emission Ion Source With Liquid Feed=36,55,1

그림 3.28. Surface Ionization Source=37,56,1

그림 3.29. A Surface Ionization Source In Which Alkali Metal Vapor Is Fed On The Front Surface Of An Incandescent Tungsten Or Iridium Ionizer Plate=37,56,1

그림 3.30. A Modification Of The Surface Ionization Source=38,57,1

그림 3.31. 대면적 대전류 이온빔소스의 설계도=40,59,1

그림 3.32. X-Ray용 내압 75KV 커넥터=40,59,1

그림 3.33. 고전압 하에서의 이온 광학계 설계=41,60,1

그림 3.34. 관내 Glow Discharge를 방지하기 위한 가스 주입 시스템=42,61,1

그림 3.35. The Closed Loop Cooling System=43,62,1

그림 3.36. 금속 Bellows=43,62,1

그림 3.37. 세라믹-메탈 접합된 절연구조물의 리크테스트=44,63,1

그림 3.38. 조립을 위해 준비된 가공물=45,64,1

그림 3.39. 개발된 고전압 이온소스를 테스트하기 위한 시스템=46,65,1

그림 3.40. 고전압 대전류 이온소스의 전원구성도=47,66,1

그림 3.41. 테스트 시스템에 장착된 고전압 이온소스=48,67,1

그림 3.42. 이온소스 내부의 플라즈마 생성 모습=49,68,1

그림 3.43. 이온빔에 의해 금속판이 붉게 가열된 모습=50,69,1

그림 3.44. 빔전류 분포=51,70,1

그림 3.45. 쇼와덴꼬사에서 실험용으로 제공한 21 mm 하드디스크=52,71,1

그림 3.46. 이온빔 처리 전과 처리 후의 보자력 변화 모습 (2003년 PNT 기술 제공)=52,71,1

그림 4.1. 가스 및 메탈이온소스의 방전챔버의 구조=54,73,1

그림 4.2. 기업화추진을 위한 방향흐름=55,74,1

그림 4.3. 상품화를 위한 계획=56,75,1

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