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목차

[표제지]=0,1,1

제출문=0,2,1

보고서 초록=0,3,1

요약문=I,4,4

Summary=V,8,6

Contents=XI,14,2

목차=XIII,16,2

제1장 연구개발과제의 개요=1,18,1

1절 연구개발의 필요성=1,18,3

2절 다이아몬드를 이용한 방사선 검출기 기술=3,20,4

3절 아크젯 열플라즈마법에 의한 다이아몬드 박막 화학기상 증착 기술=6,23,3

4절 연구개발의 목표 및 내용=9,26,2

제2장 국내외 기술개발 현황=11,28,4

제3장 연구개발 수행 내용 및 결과=15,32,1

1절 아크젯 열플라즈마 다이아몬드 화학기상증착 시스템의 설계 및 제작=15,32,1

1. 아크젯 열플라즈마 발생을 위한 간극형 열플라즈마 토치=15,32,6

2. 진공반응함 및 모재 온도 제어 장치=20,37,5

2절 아크젯 열플라즈마를 이용한 다이아몬드 박막 기초 증착 실험=24,41,1

1. 간극형 열플라즈마 토치의 메탄 분해 효과=24,41,2

2. 증착 모재의 전처리 및 공정 조건=25,42,3

3. 아크젯 열플라즈마 다이아몬드 박막 화학기상증착의 공정 조건 파악 및 증착 박막의 물성분석=27,44,2

4. 메탄/수소 유량비에 따른 다이아몬드 박막 증착 특성=28,45,9

5. 모재 온도에 따른 다이아몬드 박막의 증착 특성=36,53,3

6. 아크젯 열플라즈마 다이아몬드 CVD 공정의 단위 시간당 증착율=38,55,4

3절 아크젯 열플라즈마 다이아몬드 화학기상증착 공정의 최적화=42,59,1

1. 통계적 실험계획법에 의한 아크젯 열플라즈마 다이아몬드 박막 화학기상증착 최적화 방법=42,59,2

2. 아크젯 열플라즈마 다이아몬드 화학기상증착 공정의 최적 공정 조건 분석=43,60,6

3. 다이아몬드 박막 화학기상증착 공정의 최적조건 도출 및 박막 증착=49,66,4

4절 아크젯 열플라즈마 특성의 수치해석 및 진단 기법 확립과 다이아몬드 박막 증착 특성과의 상관관계 분석=53,70,1

1. 아크젯 열플라즈마 특성 수치해석=53,70,7

2. 아크젯 열플라즈마 특성의 진단 기법 확립=60,77,17

제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도=77,94,1

1절 연구개발 목표 달성도=77,94,1

2절 관련 분야 기여도=78,95,1

제5장 연구개발결과의 활용계획=79,96,4

제6장 참고문헌=83,100,2

영문목차

[title page etc.]=0,1,7

Summary=V,8,6

Contents=XI,14,4

1. Introduction=1,18,1

1.1. Research Necessity=1,18,3

1.2. Radiation Detector With Diamond=3,20,4

1.3. Diamond Film CVD Process By Arc-jet Thermal Plasma=6,23,3

1.4. Research Objectives And Scopes=9,26,2

2. Present Status Of Domestic And Overseas Research Activities=11,28,4

3. Contents And Research Results=15,32,1

3.1. Design And Fabrication Of Diamond Film CVD System By Arc-jet Thermal Plasma=15,32,1

1. Inter-electrode Arc-jet Thermal Plasma Torch=15,32,6

2. Control Of Reactor And Substrate Temperature=20,37,5

3.2. Preliminary Experiment Of Diamond Flm CVD By Arc-jet Thermal Plasma=24,41,1

1. Performance Of Methane Decompostion By Inter-electrode Torch=24,41,2

2. Pre-treatment Of Substrate And Processing Conditions=25,42,3

3. Analysis Of Processing Conditions By Arc-jet Thermal Plasma CVD And Diamond Film Characteristics=27,44,2

4. Diamond Film Characteristics Depending On Methane/Hydrogen Ratio=28,45,9

5. Diamond Film Characteristics Depending On Substrate Temperature=36,53,3

6. Growth Rate Of Diamond Films=38,55,4

3.3. Optimization Of Diamond Film CVD Process By Arc-jet Thermal Plasma=42,59,1

1. Optimization Method=42,59,2

2. Analysis Of Optimal Processing Conditions=43,60,6

3. Analysis Of Diamond Films In Optimal Processing Conditions=49,66,4

3.4. Analysis Of The Correlation Between Arc-jet Thermal Plasma Property And Diamond Film CVD Characteristics=53,70,1

1. Numerical Modeling=53,70,7

2. Plasma Diagnostics=60,77,17

4. Achievement And Contribution Of The Present Research=77,94,1

4.1. Achievement Of The Present Research=77,94,1

4.2. Contribution Of The Present Research=78,95,1

5. Suggestions For Application Of The Research Results=79,96,4

6. References=83,100,2

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