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표제지

목차

요약 2

I. 개요 8

1. 분석배경 및 목적 9

1-1. 분석 배경 9

1-2. 분석 목적 9

2. 분석범위 10

2-1. 분석대상 특허 검색 DB 및 검색범위 10

2-2. 분석대상 기술 및 검색식 도출 11

2-3. 유효특허 선별 기준 및 결과 14

2-4. 특허기술동향조사 분석방법 16

2-5. Main IPC 분류 17

2-6. 기술분류체계 도출 과정 18

II. 특허기술 Landscape 25

1. 국가별 Landscape 26

1-1. 주요출원국 기술개발 활동현황 26

1-2. 기술시장 성장단계 파악 30

2. 경쟁자 Landscape 33

2-1. 주요 경쟁자 현황 및 IP로 본 출원국 33

2-2. IP 시장국별 주요 경쟁자 현황 35

3. 세부기술 동향 36

3-1. 세부기술별 출원증가율 분석 36

3-2. 세부기술별 출원점유율 분석 38

4. 소결 40

III. 지재권 중심의 심층분석 41

IV. 특허분석 결론 및 시사점 42

V. 부록 43

판권기 44

표목차

〈표 1-1〉 검색 DB 및 검색범위 10

〈표 1-2〉 분석대상 기술의 기술분류 체계 11

〈표 1-3〉 분석대상 기술분류기준 12

〈표 1-4〉 기술분류체계에 따른 최종 검색식 13

〈표 1-5〉 유효특허 선별 기준 14

〈표 1-6〉 지반 연구분야 WCI 달성을 위한 특화전략사업 기술의 유효특허 선별결과 15

〈표 1-7〉 상위 10개 IPC 분류 17

〈표 2-1〉 경쟁자 Landscape 33

〈표 2-2〉 세부기술별 추세선 분석 36

그림목차

〈그림 1-1〉 상위 10개 Main IPC 분류 17

〈그림 1-2〉 기술분류체계(원문불량) 18

〈그림 1-3〉 기술분류기준(원문불량) 19

〈그림 1-4〉 1차 검색식(원문불량) 20

〈그림 1-5〉 1차 검색식에 따른 검색결과(원문불량) 20

〈그림 1-6〉 1차 검색식에 따른 검토결과(원문불량) 21

〈그림 1-7〉 기술분류체계 22

〈그림 1-8〉 기술분류기준 22

〈그림 1-9〉 2차 검색식 23

〈그림 1-10〉 2차 검색식에 따른 검색결과 23

〈그림 1-11〉 1차 기술분류체계 도출 결과 24

〈그림 1-12〉 2차 기술분류체계 도출 결과 24

〈그림 2-1〉 주요출원국 연도별 특허출원현황 26

〈그림 2-2〉 연도별 주요출원국 내ㆍ외국인 특허출원현황 28

〈그림 2-3〉 주요출원국 출원 동향 30

〈그림 2-4〉 국가별 기술성장 단계 31

〈그림 2-5〉 주요시장국 상위 출원인 현황 35

〈그림 2-6〉 소분류별 기술점유율 변화추이 38