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연구결과 요약문

목차

1. 연구개발과제의 개요 4

1) 연구개발의 목표 4

2) 연구의 필요성 4

(1) 비 식각법인 damascene 공정에 의한 금속배선 패턴형성의 한계 4

(2) 금속배선 구리박막의 건식 식각법의 부재 4

3) 연구 추진방법 4

원자층 식각법(atomic layer etching)을 통한 금속 배선 박막의 식각공정 개발 4

Pulsed 고밀도 플라즈마 반응성 이온 식각법에 의한 미세 나노패턴 금속 배선 박막의 식각 4

무기계 및 유기계 물질 식각가스 개발 4

2. 연구개발과제의 수행 과정 및 수행 내용 5

1) 고밀도 플라즈마 식각법 5

Acetylacetone(acac)/Ar gas 5

Acetylacetone(acac)/O₂/Ar gas 6

Ethylenediamine(EDA)/CH₃COOH/Ar gas 7

CH₃COCH₃/Ar gas(3차 년도 목표 달성) 8

2) Pulse-modulated 플라즈마 식각법 9

C₂H₅OH/Ar gas 9

3) 원자층 플라즈마 식각법(3차 년도 목표 달성) 9

Acetylacetone(acac)/O₂ gas(step1) 9

Ar sputtering(step2) 11

3. 연구개발과제의 수행 결과 및 목표 달성 수준 12

1) 정성적 연구개발성과(연구개발결과) 12

(1) 1차년도 12

(2) 2차년도 12

(3) 3차년도 13

2) 세부 정량적 연구개발성과 : [붙임1] 참조 13

3) 목표 달성 수준 13

4. 연구개발성과의 관련 분야에 대한 기여 정도(연구개발결과의 중요성) 14

1) 기술적 측면 14

2) 경제·산업적 측면 14

3) 학문적 및 인력양성 측면 14

5. 연구개발성과의 관리 및 활용 계획 14

1) 연구 성과의 활용방안 14

6. 자체점검표 15

7. 참고문헌 15

붙임 17

1. 세부 정량적 연구개발성과 17

2-1. 연구책임자 대표적 연구실적 19

2-2. 주관연구책임자 대표적 논문·특허실적 요약문 20

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