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일문목차

序言

第1章 半導體産業の步み=1

1. はじめに=1

1.1. 産業ㆍ企業のサイクルと技術の流れ

1.2. トランジスタの發明と工業化へ

2. 半導體産業の第一期=6

3. 日美半導體摩擦=12

4. 半導體産業の第二期=17

4.1. 美國企業の戰略轉換

4.2. 韓國企業の參入と台灣での半導體産業の成立

4.3. 日本企業の停滯

第2章 美國半導體企業の事業戰略推移と日美比較=25

1. はじめに=25

1.1. 情報化社會と半導體産業

1.2. 産業ㆍ企業の成長ㆍ衰退のパタ-ン

1.3. 企業における硏究開發

1.4. 企業戰略

2. 美國半導體産業の步み=30

2.1. べル硏究所

2.2. 電話事業のボトルネック技術

2.3. ショックレ-半導體硏究所

2.4. フェアチャイルド半導體

3. インテルの硏究開鉢羲事業戰略=38

3.1. 創設

3.2. インテルを育てた人人

3.3. 半導體メモリ

3.4. MPU(超小型演算處理裝置)

3.5. インテルとIBM

3.6. 日本企業との競爭

3.7. VLSI國家プロジェクトとセマテック

3.8. DRAMからの撤退

4. 日美半導體企業の事業戰略=53

4.1. 半導體に係わる技術, 人, 企業, 戰略の流れ

4.2. 日美半導體企業の事業戰略

4.3. 硏究者群像

4.4. 硏究開發戰略

4.5. その他

第3章 九○年代の日本半導體産業の特色=67

1. はじめに=67

2. 半導體産業の九○年代=68

2.1. インテルの躍進と韓國半導體産業の成立

2.2. 九○年代のシリコンサイクル

2.3. 鐵鋼大手の半導體事業參入と撤退

2.4. 九○年代後半の台灣半導體産業の躍進と日本企業との提携

3. DRAM事業の歷史=71

3.1. DRAMの步み

3.2. DRAMとMPU

4. フラッシュメモリ=81

4.1. 携帶電話とフラッシュメモリ

4.2. フラッシュメモリの開發

5. 日美半導體協定のシェア問題紛議の解消=85

6. 九○年代後半の半導體不況=87

7. 日本半導體企業の戰略見直し=89

7.1. 富士通のケ-ス

7.2. 東芝のケ-ス

7.3. 日立とNECのケ-ス

7.4. 沖電氣のケ-ス

7.5. 三菱電機と松下電子のケ-ス

7.6. 九○年代のトピックス

8. なぜ日本勢が後退したのか=105

8.1. 激動の一○年と円高

8.2. 激動期の日本式經營

第4章 日本鐵鋼大手の半導體事業參入と撤退=123

1. 鐵鋼大手と多角化戰略=123

2. シリコンウエハ-分野への參入と撤退=125

2.1. 日本鋼管(NKK)のケ-ス

2.2. 新日鐵のケ-ス

2.3. 川崎製鐵のケ-ス

2.4. 住友金屬のケ-ス

3. LSI分野への參入=130

3.1. 川崎製鐵のケ-ス

3.2. 神戶製鋼のケ-ス

3.3. 新日鐵のケ-ス

3.4. NKKのケ-ス

4. 鐵鋼大手の半導體事業がなぜ失敗したのか=147

4.1. 鐵鋼業と半導體事業の大きな差異

4.2. 新日鐵の社風, 體質

4.3. 經營トップ層の意識

4.4. 技術問題

第5章 韓國半導體産業の構造と課題=161

1. 三星財閥の成立と發展=161

2. 韓國半導體産業の成立=166

3. 韓國半導體産業成立の要因=172

3.1. コ-ポレ-トㆍガバナンスの特異性

3.2. 投資資本の獲得

3.3. 技術的タイミング

3.4. 政治的タイミング

3.5. 円高のタイミング

4. 韓國半導體産業の構造=181

4.1. 川上, 川下の兩産業との關係

4.2. 輸出依存度の高さ

4.3. 製品構造

4.4. 資金構造

4.5. 技術構造

5. 韓國半導體産業の課題=187

5.1. DRAM戰略の問題点

5.2. 微細加工技術へのブレ-クスル-問題

5.3. 資金問題

6. 韓國財閥經營の今後の課題=192

第6章 台灣半導體産業の成立とその特色=201

1. 台灣半導體産業の生いたち=201

2. ファウンドリ-事業=205

3. 日本企業との提携=209

4. 韓國半導體産業との比較=213

5. 備考=216

第7章 日本の半導體ファブレスㆍべンチャ-企業の一例=219

1. はじめに=219

2. 創業者のキャリア=224

3. べンチャ-企業の創設=233

4. べンチャ-としての發展=237

5. 成功の理由=239

5.1. 創設者のキャリア

5.2. 戰略(1)

5.3. 戰略(2)

6. その他=246

主要參考文獻

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