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반도체 습식 식각 공정 Etchant(초산+과산화수소+메타술폰산) 혼합물의 인화점, 자연발화점 및 반응열에 의한 배관 표면 변화에 관한 연구 = A study on the flash point, autoignition temperature, and piping surface changes caused by reaction heat of the (MSA+acetic acid+hydrogen peroxide) etchant system in semiconductor wet etching processes